001 含有无机粉体的树脂组合物、转印膜和等离子体显示屏的制造方法
002 干膜光致抗蚀剂
003 X射线光刻对准标记
004 光刻装置、照射系统以及提供远紫外线辐射投影光束的方法
005 光刻装置及器件制造方法
006 抗蚀图案的剥离方法
007 磺酸衍生物及其作为潜酸的用途
008 抗反射组合物
009 光罩与应用其形成多晶硅层的方法
010 一种柔性光学传感器的制作方法
011 厚外延层上进行投影光刻的方法
012 用x射线曝光制造不同深宽比的微机械构件的方法
013 光罩、光罩的制成方法以及使用该光罩的图案形成方法
014 校正在三色调衰减相移掩模中邻近效应的结构和方法
015 感光树脂组合物
016 抗蚀剂组合物
017 光罩处理器及使用此光罩处理器来处理光罩的方法
018 一种修复掩膜上的铬污染点的方法及其所采用的定位版
019 显示面板的框胶注入装置及其注入方法
020 显示面板的边框及其构成方法
021 光刻掩模位相冲突的解决方法
022 形成防反射膜的组合物
023 掩模和使用该掩模制造液晶显示器件的方法
024 曝光掩模和使用该曝光掩模的曝光方法
025 掩模
026 激光掩模以及利用其结晶的方法
027 激光掩模以及使用其的结晶方法
028 表面保护膜及使用该膜的表面保护材料
029 平版印刷版前体以及使用其的平版印刷方法
030 水溶性材料、化学放大型抗蚀剂及使用它们的图形形成方法
031 交联聚合物、有机抗反射涂层组合物及形成光刻胶图案的方法
032 抗蚀剂图案制造工艺及其增厚材料和半导体器件制造工艺
033 含有包括氟磺酰胺基团的聚合物的正型光刻胶组合物及其使用方法
034 正型光致抗蚀剂剥离液组合物
035 光刻装置和器件制造方法
036 曝光方法和装置
037 使用光微影罩幕降低印制于基板上影像的不一致性及影像缩短的方法及光微
影罩幕
038 光刻装置和器件制造方法
039 浸润式光刻之方法与系统
040 曝光装置和器件制造方法
041 光栅补丁装置、光刻设备、测试方法、器件制造方法
042 移动用于浸液光刻的透镜的方法和装置
043 光刻装置
044 用于制造平板显示器件的方法和设备
045 平板显示装置及其制造方法
046 光刻装置和器件制造方法
047 图案形成装置和使用其制造连续图案的方法
048 滤色片的制造方法、固体摄像器件和摄像机
049 抑制污染的光刻设备,器件制造方法,和由此制造的器件
050 曝光处理系统、曝光处理方法和半导体器件的制造方法
051 感放射线性组合物用低泡沫显影液
052 利用电子束诱导化学刻蚀修复掩模
053 含有感光速度促进剂的可水显影光成像厚膜组合物
054 用于显微平版印刷的氟化共聚物
055 感光性树脂组合物、使用感光性树脂组合物的光敏元件、抗蚀图形的形成方
法及印...
056 图像形成方法和装置
057 用于避免和清洁光学元件上污染物的装置,EUV石版印刷设备和方法
058 用于浸液式光刻的折射投影物镜
059 花纹工艺中的全移相掩模
060 聚合物和包含聚合物的光致抗蚀剂组合物
061 感光性树脂组合物,使用该组合物的感光性元件、保护层图案的制造法及印
刷电路...
062 化学放大型正光刻胶组合物
063 光刻过程中晶片热形变的优化校正
064 曝光方法
065 图形绘图装置、信息记录媒体的制造方法及母盘制造方法
066 高数值孔径光刻成像偏振控制装置
067 抗蚀剂残渣去除液组合物及半导体电路元件的制造方法
068 形成辐射图案的工具以及形成辐射图案的工具的方法
069 曝光掩模图形的形成方法,曝光掩模图形,以及半导体器件的制作方法
070 一种用于硬掩膜层的含氧化硅基团的抗反射组合物
071 减少多孔介电薄膜清洗期间损伤的处理方法
072 正型感光性树脂组合物及图案形成方法
073 成像方法
074 光刻术的方法,装置和计算机程序产品
075 嵌入式衰减相移光掩模坯料
076 膏料、显示器部件和显示器部件的制造方法
077 感光性组合物以及滤色器
078 一种在普通实验室条件下制作玻璃芯片的方法
079 自适应的光刻临界尺寸增强
080 执行基于模型的光学邻近校正的方法
081 优化偏振照明
082 抗蚀图形形成方法、使用该法的微细图形形成方法
083 光刻装置及器件制造方法
084 图形形成方法
085 使用增强的干涉映象光刻技术的特征最优化
086 含有酮、醛共聚合物的酸分解性树脂组合物
087 模仁制造方法
088 感光性转印薄片、感光性叠层体、形成图像图案的方法、形成配线图案的方
法
089 光刻装置及器件制造方法
090 形成具有低电阻率金属图案的方法
091 测量方法、用于提供对准标记的方法和器件制造方法
092 曝光系统、杂散光检查用的检查掩模及评价光刻工艺的方法
093 感光性树脂组合物及其用途
094 使用前馈覆盖信息的光刻覆盖控制
095 打印大数据流的方法和装置
096 清洗半导体基板的PH缓冲组合物
097 自动设计装置和方法及所制中间掩模组和半导体集成电路
098 凹版印刷法与凹板印刷品
099 对用于丝网印刷高质量光盘的丝网印刷板进行照相制版的自动机器
100 化学增幅型抗蚀剂及图案形成方法
101 用于等离子体显示板的光敏导电组合物
102 沉浸式石印流体
103 微影参数反馈系统及控制方法
104 处理具有倾斜特征的掩模的系统与方法
105 光学元件，包括该光学元件的光刻装置以及设备制造方法
106 光刻设备、器件制造方法、以及由此制造的器件
107 含有反应性颗粒的可光固化组合物
108 可辐射固化树脂组合物及利用该组合物的快速成型方法
109 包含缩醛和缩酮作为溶剂的光刻胶组合物
110 使用具有聚氧乙烯片段的粘合剂树脂的施压时可显影的红外敏感的印刷板
111 特别用于极远紫外(EUV)光刻术中的发光系统
112 光致抗蚀剂剥离方法
113 蚀刻掩模
114 光栅偏振掩模板及其在投影光刻系统中的应用
115 掩模基板的平整度模拟系统
116 光刻胶层中减小图案尺寸的方法
117 光刻胶层中减小图案尺寸的方法
118 光刻胶层中减小图案尺寸的方法
119 有机抗反射涂覆组合物及用其形成光阻图案的方法
120 高尔夫球杆头表面蚀刻方法
121 图形描绘装置
122 一种双面光刻机底面套刻对准方法
123 七自由度定位机构
124 使用相移和辅助微细结构使半导体层形成图案
125 使用全相位和修剪掩膜的临界尺寸控制
126 制造带有立体表面结构化的单元的方法以及该方法的应用
127 纳米压印光刻胶
128 光掩模及其制备方法
129 光学掩模及利用该掩模的薄膜晶体管阵列面板的制造方法
130 光敏半导体纳米晶和包含其的光敏组合物及其用途
131 感光性转印片
132 感光性转印片、感光性层合体、图像花样的形成方法以及布线花样的形成方
法
133 感放射线性树脂组合物、显示面板用间隔物以及显示面板
134 浸润式光刻系统及对具有光阻层的半导体结构的照光方法
135 用于光刻工艺窗口最优化的方法和系统
136 投影曝光装置、器件制造方法和传感器单元
137 步进扫描投影光刻机中的杂散光原位检测方法
138 稀释剂组分及用其除去光刻胶的方法
139 以光微影结构化半导体基板的光罩的制造方法
140 光刻掩模制造
141 在晶片处理中低电介质材料的钝化方法
142 选择的产酸剂及其在辐射敏感元件成像处理中的应用
143 感光性树脂组合物和耐热性树脂膜的制造方法
144 放射线敏感性树脂组合物、树脂图案膜及其形成方法以及树脂图案膜的应用
145 光刻制程、掩膜版及其制造方法
146 纳米印章技术中纳米级模板的制备方法
147 成像组合物及方法
148 用于测量和校正对准误差的叠层标记
149 光刻装置和器件制造方法
150 具有前馈调焦装置的光刻装置及器件制作方法
151 一种多自由度运动和定位装置
152 一种曝光装置
153 使用已校准的本征分解模型的光刻过程的制造可靠性检查与验证的方法
154 包含聚合物磺酸盐酸产生剂的辐射敏感组合物及其在成像中的用途
155 包含光活性化合物混合物的用于深紫外平版印刷的光刻胶组合物
156 用于把掩模投影到衬底上的方法和装置
157 曝光头及曝光装置和它的应用
158 用于微电子基底的清洁组合物
159 包含氧化剂和有机溶剂的微电子清洁组合物
160 图案化光阻层的形成方法及其制造设备
161 无掩模光学写入器
162 平版印刷版前体
163 光固化性•热固性树脂组合物和使用该组合物的印刷线路板
164 利用光掩模板作无源对准的方法
165 压模制造方法
166 用于高数值孔径系统的静态和动态径向横向电偏振器
167 基于OPC模型的本征分解
168 一种图案形成方法
169 光刻装置及器件制造方法
170 光掩模
171 多层光刻模板
172 鎓盐和其作为潜酸的用途
173 防止显影缺陷的方法及用于该方法的组合物
174 掩模基板信息生成方法和掩模基板的制造方法
175 可聚合组合物和平版印刷版前体
176 正型感光性组合物用显影剂
177 高效水乳型圆网感光胶
178 高分辨率的圆网制版用感光胶
179 亚波长光刻的实施相平衡散射条放置模型的方法及其装置
180 一种偏振光瞳器件及其在投影光刻系统中的应用
181 光刻装置及器件制造方法
182 一种采用激光对SU-8胶曝光光刻的方法及其装置
183 光阻用显影液浓度管理方法与管理装置
184 平版印刷术用洗涤剂及冲洗液
185 使用无定形碳层改善光栅制造的方法
186 掩模以及使用掩模的制造方法
187 用于干膜抗蚀剂的热稳定的光固化树脂组合物
188 基于多环聚合物的感光组合物
189 可见光感光性组合物
190 极高孔径的投影物镜
191 具有照明源的光学装置
192 用于抗反射涂层的组合物及形成图形的方法
193 图案细微化用涂膜形成剂和使用该形成剂形成细微图案的方法
194 布局数据检验方法、掩模图案检验方法及电路动作检验方法
195 一种耐酸耐碱的圆网制版感光胶
196 一种环保水乳型圆网感光胶
197 水乳型圆网感光胶
198 平版印刷版前体
199 光刻胶组合物
200 非旋涂方式用正型光致抗蚀剂组合物及抗蚀图形形成方法
201 形成反光图案的方法及其制品
202 曝光装置及方法
203 实时监控光刻过程所用组合物的系统和方法
204 光刻装置、洛伦兹致动器、及器件制作方法
205 光刻设备及器件制作方法
206 用于相移式掩膜的原位平衡
