001 排出喷嘴式涂布法用正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图的形成方法
002 官能化聚合物
003 光刻设备、装置制造方法和计算机程序
004 烘烤系统
005 光致抗蚀剂移除组合物
006 用于EUV光刻的掩模版及其制作方法
007 光掩模传送支撑座及光掩模传送方法
008 装载锁定装置，包括该装置的光刻设备及制造基底的方法
009 化学增幅光阻剂组成物
010 光刻装置中质量体的位置控制
011 投影系统及利用该投影系统的方法
012 具有包括凹面镜和凸面镜的聚光器的光刻投影装置
013 平板印刷设备、器件制造方法和计算机程序
014 在蚀刻处理后移除聚合物的方法
015 多层光致抗蚀剂系统
016 光敏树脂组合物和应用该组合物形成树脂图形的方法
017 感放射线性树脂组合物
018 感光性树脂转印装置以及方法
019 在任意尺寸的柔顺介质上复制高分辨率三维压印图案的方法
020 光刻投影装置中的聚焦疵点监测
021 光刻设备及装置制造方法
022 光刻装置，器件制造方法，掩模以及确定掩模和/或薄膜特征的方法
023 光刻装置，设备制造方法和角编码器
024 照明器控制的影调反转印刷
025 用于光刻胶的感光树脂组合物
026 亚砜吡咯烷(啉)酮链烷醇胺剥离和清洗组合物
027 集成电路光刻设备的磁悬浮精密工件台
028 负性彩色感光组合物
029 正性光敏树脂组合物、制备正性光敏树脂组合物的方法及半导体设备
030 红移单-和双-酰基氧化膦和硫化膦及其作为光引发剂的应用
031 用于显微光刻中的抗反射层
032 形成光刻用防反射膜的组合物
033 一种电子束化学增幅正性抗蚀剂及其制备方法和光刻工艺
034 准分子激光电化学微结构制造方法及其装置
035 模板和光学特征测量方法
036 使用反射掩膜的集成电路
037 光敏性树脂组合物
038 相移波纹聚焦监视器
039 减少透镜像差与图案移位的光罩与方法
040 微影制程
041 图形形成方法及曝光装置
042 曝光系统及方法
043 具有群组补偿能力的曝光系统及方法
044 防止回溅的装置与方法
045 液晶显示面板前段阵列制造工艺中第一道黄光暨蚀刻方法
046 在曝光对位制造工艺中去除彩色光阻的方法
047 光刻法中使用的涂敷了氟聚合物的光学掩模
048 微细图案形成材料及微细结构的形成方法
049 采用准分子激光制备高聚物基生物芯片微流路结构的方法和系统
050 薄膜晶体管的制造方法
051 在气体环境中执行曝光处理的基片处理系统
052 具有洗边装置的显影机台
053 形成无侧叶现象的光致抗蚀剂层的方法
054 金属掩模板
055 一般波长或长波长光接触接近纳米光刻光学装置
056 一种紫外曝光机及其曝光量自动控制方法及其装置
057 最小尺寸为纳米量级图形的印刻法制备工艺
058 一次扫描两个普通曝光区域的曝光方法
059 在气体环境中执行曝光处理的基片处理系统
060 二元光学器件变灰度掩模制作方法及装置
061 表面等离子体共振图像分析金膜点阵列的制备方法
062 多层光致抗蚀剂系统
063 平版印刷装置和设备的制造方法
064 着色光敏树脂组合物
065 图像形成用感光性树脂组合物
066 固化树脂图案的形成方法
067 化学放大型光刻胶组合物
068 含有苯酚-亚联苯基树脂的负型光敏树脂组合物
069 光致抗蚀剂组合物及其制备方法
070 用于多个微型喷嘴涂布机的光致抗蚀剂组合物
071 正型抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法
072 排出喷嘴式涂布法用正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法
073 为用于深的亚波长光刻的掩模原版图案提供光学逼近特征的方法和装置
074 用于对物体进行辐射的粒子-光学装置
075 改进的图形发生器反射镜结构
076 表面处理装置
077 光刻装置及器件制造方法
078 光刻装置和器件制造方法
079 用于直接写入光刻的产生可变间距嵌套线或接触孔的方法
080 光刻装置，器件制造方法，以及由此制造的器件
081 控制系统、光刻装置、器件制造方法以及由此制造的器件
082 光刻装置、器件制造方法和由此制造得到的器件
083 确定工艺步骤的特征的方法和器件制造方法
084 光刻装置，器件制造方法以及该方法制造的器件
085 光刻装置，器件制造方法和由此制造的器件
086 校准光刻装置的方法,对准方法，计算机程序，光刻装置和器件制造方法
087 一种包括传感器的组件，其制造方法及光刻投影设备
088 蚀刻方法和用于形成蚀刻保护层的组合物
089 正感光性聚酰亚胺树脂组合物
090 负作用水性光刻胶组合物
091 感光树脂组合物
092 一种用于展宽显示屏幕视角的光学薄膜的制备方法
093 激光光绘机负压式全自动上下片装置
094 黑色矩阵用感光性树脂组成物
095 微光学器件数字分形掩模制作方法
096 用于液晶设备的正型光刻胶组合物
097 反应显影布图方法
098 形成光刻用防反射膜的组合物
099 制作微电子器件的工艺
100 X射线光刻与光学光刻混合制作T型栅的方法
101 X射线掩模与石英环紫外固化装置及使用方法
102 无尘室的制作程序机台配置
103 氢氧化四甲铵显影液的回收系统及其方法
104 一种电子束缩小投影曝光成像系统
105 不同层次的曝光方法
106 防止液体回溅的装置
107 湿蚀刻装置
108 光阻剥离方法
109 X射线光刻对准标记图形
110 包括二叠氮醌硫酸酯化合物的感光树脂组合物
111 接触孔洞光学邻近效应修正和掩模及半导体装置制造方法
112 光刻投影组件、装载锁闭装置和转移物体的方法
113 聚合物和含有该聚合物的光刻胶
114 氟化的硅-聚合物和包含该聚合物的光刻胶
115 黑色矩阵用感光性树脂组成物
116 正型光阻剂组合物及形成光阻图样的方法
117 一种光刻胶涂敷装置
118 感光材料的排放部件和涂覆装置以及涂覆感光层的设备
119 基于厚胶光刻的三维微结构加工方法
120 装置制造方法,掩模组,数据组,掩模图案化方法及程序
121 装置制造方法
122 曝光方法和使用这种方法的半导体器件制造方法
123 防蚀显影组合物
124 等离子体反应室
125 可降低光学接近效应的光罩
126 平版印刷板材料和平版印刷板材料的制备方法
127 光致抗蚀剂聚合物与含有该光致抗蚀剂聚合物的光致抗蚀剂化合物
128 间隙体用感光性树脂组成物
129 正型感光性树脂组成物
130 微透镜的制造方法
131 基板型显像装置
132 投影曝光设备
133 化学漂洗组合物
134 环境中耐久的、自密封的光学制品
135 正型光刻胶组合物及光刻胶图案形成方法
136 剥离抗蚀剂的方法
137 用于对准或重叠的标记结构，限定它的掩模图案及使用该掩模图案的光刻投影装置
138 用于使得存储器阵列区域小型化的布局方法
139 加热处理装置的温度校正方法、显影处理装置的调整方法和半导体器件的制造方法
140 具有主支柱和辅助支柱的模版掩模及其形成方法
141 灰调掩模的制造方法
142 灰调掩模的制造方法和灰调掩模
143 光聚合型平版印刷版
144 平板印刷板前体和平板印刷方法
145 感光性树脂前体组合物
146 着色感光性树脂组合物
147 曝光方法及利用该曝光方法制造用于液晶显示器的薄膜晶体管基片的方法
148 利用多投影掩模制造多个电路图案的方法和设备
149 使用包括衍射光学元件的照明系统制造半导体器件的方法
150 光刻装置及器件制造方法
151 光刻装置、器件制造方法和由此制造的器件
152 光刻装置、器件制造方法以及由此制造的器件
153 光刻装置的校准方法和器件制造方法
154 具有箔俘获的激光产生的等离子辐射系统
155 光刻装置和器件制造方法
156 对NA-σ曝光设置和散射条OPC同时优化的方法和装置
157 光刻装置和器件制造方法
158 使用倒置晶片投射光学接口的浸渍光刻系统及方法
159 用于平板显示器的像差可校正大视场投影光学系统
160 光刻装置及集成电路制造方法
161 光刻投影装置和器件制造方法
162 曝光装置
163 光刻装置以及器件制造方法
164 用于次半波长光刻构图的改善的散射条OPC应用方法
165 光刻构图装置的保险机构
166 光刻装置，器件制造方法，以及由此制造的器件
167 光致抗蚀剂剥离液组合物及使用光致抗蚀剂剥离液组合物的光致抗蚀剂的剥离方法
168 光致抗蚀剂剥离液组合物及使用光致抗蚀剂剥离液组合物的光致抗蚀剂的剥离方法
169 去除TFT-LCD制造工艺中彩色抗蚀剂的剥离组合物
170 印刷原版用冲孔装置
171 放射线敏感性电容率变化性组合物和电容率图案形成方法
172 感光性陶瓷组合物以及使用该组合物的多层基板的制造方法
173 光敏膜和印刷线路板用光敏组合物及其生产方法
174 用于图案细微化的涂膜形成剂和使用该形成剂形成细微图案的方法
175 图形制造系统、曝光装置及曝光方法
176 导光板模仁的制造方法
177 导光板模仁制造方法
178 感光性转印片、感光性层合体、图像花样的形成方法以及布线花样的形成方法
179 感光性树脂组成物以及其制出的彩色滤光片用透明材料
180 带电粒子束曝光装置和方法以及使用该装置的器件制造方法
181 光刻装置和装置调节方法
182 多层反射远紫外线光刻掩模坯件
183 无掩模微成影中用时间和/或功率调制获得剂量灰度化
184 用于除去感光树脂的稀释剂组合物
185 具有双嵌附层的减光型相移光罩及其制作方法
186 用于设计数字变形线条网屏的系统和方法
187 水溶性负型光阻及其形成光阻图案的方法
188 用于涂布EUV平板印刷术基底的方法和具有光刻胶层的基底
189 着色感光性树脂组合物
190 光敏金属纳米颗粒和用其形成导电图案的方法
191 系统LCD制造用正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法
192 感光性转印片、感光性层合体、图像花样的形成方法以及布线花样的形成方法
193 正型感光性树脂组合物、树脂膜的制造方法、半导体装置和显示元件及其制造方法
194 用于显示面板的垫片、辐射敏感树脂组合物和液晶显示器
195 光刻胶灵敏度的评价方法和光刻胶的制造方法
196 化学增幅型正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法
197 正型抗蚀剂组合物及抗蚀图案的形成方法
198 化学增幅型正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法
199 正型抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法
200 布线保护膜形成用组合物及其用途
201 用于接触孔掩模的光学逼近校正设计的方法
202 图案绘制装置
203 Z偏移和不垂直照射产生的掩膜物体的Y移位中的位置校正
204 去除光罩遮光缺陷的方法及其半导体装置的制造方法
205 可避免电荷效应所导致电子束偏移的光罩制作方法
206 带状工件的两面投影曝光装置
