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图纹面的照相制版印刷工艺半导体器件的加工技术、其所用材料原版专用设备专利技术2

001 强紫外激光防伪技术
002 目的物位置和斜度控制装置
003 分步曝光机的光控制装置
004 可干法显影的正性抗蚀剂
005 超高道密度伺服信息极坐标光刻系统、方法及设备
006 投影曝光设备及其方法
007 曝光方法和曝光设备
008 光刻方法和用于实现此方法的光刻系统
009 生产电子源基片以及带有该基片的图像形成设备的方法
010 肟磺酸酯及其作为潜在磺酸的应用
011 一种快速丝网感光膜及其合成方法
012 利用磁致伸缩致动器进行制版的装置及方法
013 有机碱催化的无显影气相光刻胶
014 感光性膏状物、等离子体显示器及其制造方法
015 照明装置及使用它的曝光方法
016 显像管制造用曝光装置
017 形成微图案的光照方法和装置
018 制造彩色预打样和在其中有用的中间接收元件及顶板的方法
019 相移掩模及其制造方法
020 用于光敏树脂印板的显影剂和制备光敏树脂印板的方法
021 用于数字印刷的中心线去混叠
022 正性光敏组合物
023 线状丝网印刷的二维调制
024 光掩模的图形结构
025 制造曝光掩模的方法
026 用于支持平板曝光装置布线图的设备
027 正型光敏树脂组合物和使用它的半导体装置
028 含有丙烯酸官能团UV稳定剂的光成象组合物
029 正性光致抗蚀剂的显影方法和所用的组合物
030 低金属离子含量的对-甲酚低聚物和光敏的组合物
031 采用极性溶剂中的离子交换树脂降低金属离子含量的方法
032 通过布线图曝光双面印刷电路板的装置
033 相移掩膜及其制造方法
034 移相掩模及其制造方法
035 光刻胶剥离液管理装置
036 用于含聚氨酯组合物的刻蚀技术
037 光敏化合物
038 一种阴图预涂感光版及其制法
039 光刻胶组合物
040 多束电子光刻系统的电子柱光学器件
041 紫外线可固化的组合物和从其制备固化产物图案的方法
042 用于阴极射线管的含光敏组分的改良光阻材料及其制备方法
043 改良光阻材料及其制备方法
044 张力臂显像器装置
045 改进光象质量的方法
046 刻线片预校正装置及预校正方法
047 采用乙烯吡咯烷酮聚合物的可水显影光敏厚膜组合物
048 树脂刻蚀溶液和刻蚀方法
049 含酸可漂白的染料的石印印版组合物
050 水性阴图预涂感光版及其制法和用途
051 光学设备的照明单元
052 负片型无处理印版
053 获得剥脱成像图案的方法
054 化学增强的抗蚀组合物
055 敏射线组合物
056 新的光致抗蚀剂共聚物
057 高分辨率的正作用干膜光致抗蚀剂
058 制作印刷模板的方法和装置
059 单组分光成像液体阻焊剂及其制法
060 用于半导体器件制备的显影设备及其控制方法
061 用由假图形所形成的光刻胶掩模将层精确构图成目标图形的方法
062 金属表面精密光刻成像材料及其制法和用途
063 一种光敏重氮盐感光剂及其制备方法和应用
064 光敏性树脂组合物成像过程的方法
065 多相光引发剂,可光聚合组合物及其应用
066 使用氟化氩光致抗蚀剂的方法和装置
067 差分干涉仪系统和配有该系统的平版印刷分步扫描装置
068 化学增强的光刻胶
069 电子束曝光系统及其使用方法
070 化学增强的光刻胶
071 包括有可变透光率的遮光层的掩模
072 无水平印印版
073 曝光用光掩模及其制造方法
074 滚涂用敏射线组合物
075 滚涂用敏射线组合物
076 抗蚀剂的显影方法以及显影装置
077 具有低金属离子含量的表面活性剂和由其产生的显影剂的生产方法
078 无水平印印版
079 使用电子束的图形曝光方法
080 含紫外反应聚合粘合剂的液态光聚合的焊接掩模组合物
081 正色调可光致成像并可交联的涂料
082 光敏性记录材料的制备方法
083 感光性化合物,感光树脂组合物,以及使用所述化合物或组合物成像的方法
084 使用移动平台的电子束曝光方法
085 光敏树脂组合物和其光敏性的应用
086 具有改进的光引发剂体系的可光成象组合物
087 光刻胶正胶组合物
088 抗反射涂层或吸光涂层组合物及其使用的聚合物
089 用于制备抗蚀剂的新方法
090 抗蚀剂剥离液控制装置
091 包括具有酸不稳定侧基的多环聚合物的光刻胶组合物
092 有改善的粘合性和加工时间的可光成像组合物
093 图像处理装置及方法
094 正性光刻胶组合物的热处理方法
095 含可光聚合氨基甲酸酯低聚物和低玻璃化温度粘合剂的可光成像组合物
096 光衰减隐蔽的相位移式光掩模半成品
097 氨基彩色发色团的金属离子含量的降低及其用于合成光致抗蚀剂的低金属含
量抗反...
098 含可光聚合氨基甲酸酯低聚物和二苯甲酸酯增塑剂的可光成像组合物
099 感光树脂组合物及使用了该组合物的感光部件
100 光掩模坯
101 有孔曲面电极及其加工方法
102 有改善的柔性、粘合性和剥膜性的可光成像组合物
103 身份证制证扩印定位装置
104 自动扫描接图的装置与方法
105 感光纸用荧光彩色印刷头
106 光聚合热固树脂组合物
107 可交联的正色性光致成像涂料
108 正性光刻胶组合物的热处理方法
109 光敏组合物和图案形成方法
110 用于抗反射或吸收辐射涂层的组合物及用于该组合物的化合物
111 一种生产网点或非网点透视片的方法
112 感光树脂组合物用抗反射涂料
113 含2,4-二硝基-1-萘酚的正性光刻胶组合物
114 光致抗蚀剂材料和用由其构成抗蚀图形的半导体装置制法
115 一种液体光致抗蚀剂
116 用于高感光的高分辨性I-谱线光致抗蚀剂的烷基磺酰肟化合物
117 原位同步光聚合光生色成像材料组合物及其制法与用途
118 光刻胶组合物用的水性抗反射涂料
119 一种超薄感光层型感光版及其制法和用途
120 高耐热照射敏感性抗蚀剂组合物
121 用于生产丝网印刷印版的方法和包括一涂覆丝网网膜的丝网印刷布
122 光刻胶组合物
123 水可显影的光敏聚氨酯-(甲基)丙烯酸酯
124 图形形成方法
125 光学印制机和光学印制头
126 方酸染料/碘∴盐复合物及其用途
127 用于光致抗蚀剂组合物的抗反射涂层
128 含有芳基联亚氨基染料的光敏组合物
129 含芳基联亚氨基染料的抗反射底涂料
130 光敏组合物及其用途
131 能使显影剂残渣减少的水性显影液
132 能使显影剂残渣减少的水性显影液
133 预染色重氮胶片的曝光方法
134 校准成像装置与旋转鼓之间的距离的方法
135 改善了在碱性水溶液中剥离性能的可光成象组合物
136 光刻胶组合物
137 协调异步数据输入
138 曝光设备
139 光敏性油墨阻剂组合物
140 可固化可光致成像的组合物
141 对于高粘度光刻胶涂层的无条纹涂敷方法
142 三维蚀刻方法
143 由于折射率最优化得到的具有改进了性能的光吸收防反射涂层
144 用于短波长光的负型光致抗蚀剂组合物及其形成图像的方法
145 改进的深紫外线光刻技术
146 抗蚀显影方法
147 碱性无显影气相光刻胶及其刻蚀氮化硅的工艺
148 酸性无显影气相光刻胶及其刻蚀氮化硅的工艺
149 自动原稿运送装置
150 彩色显象管制造用曝光装置
151 光敏树脂组合物
152 用于正性光刻胶的混合溶剂系统
153 感光性树脂组合物及使用该树脂组合物的显示元件
154 投影曝光装置及方法、振幅象差评价方法及象差消除滤光器
155 通过反常色散改变折射率的底面抗反射涂层
156 感光纸用荧光打印头
157 衰减镶嵌相移光掩模空白片
158 用于砂磨的光敏组合物以及含该组合物的光敏膜
159 化学增强的光刻胶
160 一种干膜光刻胶
161 用于将数字图像转印到感光载体上或将感光体上的图像转换为数字图像的系统
162 利用聚焦激光辐射在光敏涂敷衬底上制作结构的方法与装置
163 在镀金薄膜上的接触印刷方法
164 通过离子交换法来减少含有机极性溶剂的抗光蚀剂组合物中的金属离子污染物的方...
165 用于光致抗蚀剂的交联剂及含该交联剂的光致抗蚀剂组合物
166 用于光致抗蚀剂的交联剂及含该交联剂的光致抗蚀剂组合物
167 基于电子网板和丝网印刷技术的高密度化合物微阵列芯片制备方法
168 离轴照明掩模板
169 根据色度参数修改部分图像的方法和设备
170 化学放大型正光刻胶组合物
171 X光掩模板制造技术
172 化学增强的抗蚀剂组合物
173 形成图形的方法
174 改善光刻胶耐蚀刻性的方法
175 具有优异的抗后曝光延迟效应的光致抗蚀剂组合物
176 能量要求降低的平版成象
177 电子束曝光系统及其方法
178 含有环烯烃聚合物及饱和甾族添加剂的光刻胶组合物
179 环状烯烃聚合物和添加剂的光刻胶组合物
180 改进的临界尺寸控制
181 化学增强型正光刻胶组合物
182 化学增强型光刻胶
183 改善光刻胶耐刻蚀性的方法
184 用于改善临界尺寸控制的抗反射涂层
185 糊料组合物、坯料片、以及多层基材
186 含有环烯烃聚合物及疏水非甾族多脂环添加剂的光刻胶组合物
187 减轻掩模制造中角部变圆的系统和方法
188 具有改良耐化学性和剥离性能的光成像组合物
189 用于清除不必要感光树脂的稀释剂组合物
190 环烯烃聚合物与疏水性非甾族脂环添加剂的光刻胶组合物
191 镶嵌腐蚀方法中各向异性氮化物的腐蚀工艺
192 用于电子束曝光的掩模及制造方法和半导体器件制造方法
193 底部抗反射涂层组合物和用于该组合物的新型聚合物染料
194 提高打印品质的方法
195 光敏黑色基体组合物及其制法
196 含有∴盐型光敏酸发生剂的化学增强辐射敏感组合物
197 电子束曝光方法
198 导电聚合物层印制图案的方法
199 超过传统分辨率极限的光刻方法
200 含包括酸不稳定侧基的多环聚合物的光刻胶组合物
201 顶部涂层组合物及使用该组合物形成精细图案的方法
202 光刻胶正胶组合物
203 应用羧酸羟铵除去耐蚀膜和蚀刻残余物的组合物和方法
204 复合浮雕影像印刷板
205 可光成象组合物
206 硅氧烷光敏树脂组合物及利用其形成图案的方法


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