001 光致抗蚀剂组合物
002 改进型曝光台主透镜
003 基板保持装置、曝光装置以及器件制造方法
004 纳米结构
005 光掩模结构及其制造方法
006 光阻剂组合物
007 感放射线组合物及图案形成方法及半导体装置的制造方法
008 制作全像光罩的曝光方法
009 用于在印刷布线板上形成图案的曝光方法和装置
010 检测光罩机台修正精确度的方法
011 显影装置及显影方法
012 光刻胶用剥离液和使用该剥离液的光刻胶剥离方法
013 曝光控制光掩模及其形成方法
014 微管道的制作方法
015 可调式偏振光反应光阻与应用该光阻微影工艺
016 光源产生装置及接触孔洞的曝光方法
017 利用光学邻近效应修正多边形光罩特征图案的方法
018 钢基PS版
019 自动回馈修正的曝光方法与系统
020 通过回流从较低层除去构图层的方法
021 感光性树脂组合物、感光性元件、保护层图形的制造方法和印刷电路布线板的制造...
022 多光束图案生成器
023 短波长成像用光致抗蚀剂组合物
024 生产光敏抗蚀剂组合物的方法及用该组合物生产半导体元件的方法
025 光致抗蚀剂组合物及用其形成图案的方法
026 光致抗蚀剂组合物及用该组合物形成图案的方法
027 酸发生剂、磺酸、磺酸衍生物及辐射敏感树脂组合物
028 曝光装置以及曝光方法
029 光刻装置和器件的制造方法
030 消除由化学收缩辅助清晰度提高的平印工艺中轮廓失真的方法
031 应用远紫外区辐射源和在该区具有宽光谱带的多层镜的光刻设备
032 感光性树脂组合物
033 结晶衬底的对准方法和装置
034 包括微米和亚微米特征的半导体等器件的光机械特征制作
035 光活性树脂组合物和线路板及多层陶瓷基材的制造方法
036 一种光刻仪及其器件制造方法
037 有关模板的制造方法和制成的模板
038 光刻胶去除剂混合物
039 印刷电路板制造中的非线性图像畸变校正
040 利用间隔体技术的纳米尺寸压印模
041 正型感光性树脂组合物
042 增感色素的制造方法及使用其的感光性组合物
043 感光性树脂组合物
044 化学处理装置
045 基板处理方法和装置、显影方法及半导体装置的制造方法
046 使用液/液离心机降低成膜树脂中金属离子含量的方法
047 负作用化学放大的光刻胶组合物
048 抗静电光罩的制造方法
049 环状锍和氧化锍及含有它们的光致酸生成剂和光刻胶
050 多层高深宽比硅台阶深刻蚀方法
051 激光装置、曝光装置及方法
052 曝光装置、曝光方法，以及使用该曝光装置和方法的器件制造方法
053 用于轴外照射的光掩模及其制造方法
054 半导体元件的图案转移的方法
055 平版印刷装置和器件的制造方法
056 利用消除辅助特征来提高处理范围的方法
057 有机底部抗反射涂布层的蚀刻方法
058 将图案转移到一个物体上的装置
059 衬底及与该结构的制造相关的工艺
060 感光性树脂组合物、使用它的感光性元件、光刻胶图案的制造方法及印刷电路板的...
061 制造导电图案用的材料和方法
062 基于近红外分光计控制金属层蚀刻过程及再生用于金属层蚀刻过程的腐蚀剂的方法
063 防止显影缺陷的方法和材料
064 基于近红外分光计控制光致抗蚀剂剥离过程的方法和再生光致抗蚀剂剥离剂成分的...
065 掩膜元件，用此元件制备掩膜的方法和用此掩膜制备感光树脂印版的方法
066 数字式平印直接印版用版材
067 光源元件、照明装置、曝光装置及曝光方法
068 基底曝光方法和用于该方法的装置
069 曝光方法及曝光装置
070 材料去除方法、基体材料再生方法及显示器件制造方法
071 光刻胶剥离组合物及清洗组合物
072 光掩模的制造方法和使用该光掩模的半导体装置制造方法
073 光刻装置和器件制造方法
074 光刻装置和器件制造方法
075 残余聚合物去除剂及其使用方法
076 去除感光性树脂与残余聚合物的方法
077 显影液供给装置
078 一种抗蚀图形改进材料以及使用该材料制备抗蚀图形的方法
079 抗蚀剂组合物
080 利用多重曝光形成孤立线的方法
081 光刻装置及器件制造方法
082 惰性气体置换方法和装置、曝光装置及标线片装置
083 对准方法,对准基底,光刻装置和器件制造方法
084 液体处理方法和液体处理装置
085 增进介电抗反射涂布层的光阻蚀刻选择比的方法
086 用于剥离光刻胶的组合物
087 晶片光刻法中显影工艺的改进方法
088 涂覆方法和涂覆设备
089 用于深紫外线的光刻胶组合物及其方法
090 集成电路制造方法
091 形成平版印刷用填隙材料的组合物
092 灰调掩模及其制造方法
093 灰调掩模及其制造方法
094 主动式有机电致发光显示器的制作方法
095 形成图案的工序及采用该工序制造液晶显示设备的方法
096 图案转移的方法
097 避免定位误差的双镶嵌结构制作方法
098 控制接触窗微距的蚀刻方法
099 有机电激发光显示面板显影设备及方法
100 激光加工方法和设备
101 液晶显示器件的制造方法
102 用于形成防反射膜的涂布液组合物、光刻胶层合体以及光刻胶图案的形成方法
103 加工方法、半导体器件的制造方法、和加工装置
104 能束曝光方法和曝光装置
105 扫描曝光方法和扫描曝光装置
106 加热装置
107 曝光方法、曝光装置及器件制造方法
108 图形写入装置和图形写入方法
109 照明光学装置、曝光装置及曝光方法
110 组装光学元件套件和方法，光学元件，平版印刷机和器件制造法
111 曝光方法及曝光装置
112 光刻装置，器件制造、性能测量及校准方法和计算机程序
113 投影曝光装置、位置对准装置以及位置对准方法
114 使用铬膜辅助图形的无铬膜相转移光罩
115 化学增幅光阻剂组成物
116 多阶段烘烤光阻以改善光刻品质的方法
117 防止静电破坏的光罩
118 降低易碎基片接触曝光碎片率的方法
119 改善易碎基片涂胶工艺的方法
120 微影制程的焦距检测方法
121 曝光方法、曝光装置及元件制造方法
122 具有照度偏光控制的光罩
123 相移掩膜的制作方法
124 光罩、光罩制作方法及使用该光罩的图案形成方法
125 光罩、光罩的制作方法及使用该光罩的图案形成方法
126 平版印刷设备及器件的制造方法
127 器件制造方法及其制得的器件与计算机程序
128 使用两件式盖子保护模版的系统和方法
129 基板处理方法和基板处理装置
130 光刻装置、器件制造方法及其制得的器件
131 用于改进相移掩模成像性能的装置和系统及其方法
132 电子装置的制造方法及其制造装置
133 驱动装置、曝光装置及器件制造方法
134 制造用于纳米压印光刻的亚光刻尺寸线和间隔图案的方法
135 酚醛清漆树脂溶液、正型光致抗蚀剂组合物及其调制方法
136 一种制造亚光刻尺寸通路的方法
137 感光性平板印刷板
138 投影光学系统、其制造方法、曝光装置及曝光方法
139 在使用具有预数值孔径控制的照射系统的光刻装置中改善线宽控制的系统和方法
140 用于改善光刻装置中线宽控制的系统和方法
141 投影光学系统、具备该系统的曝光装置以及曝光方法
142 平版印刷设备、器件制造方法以及由此制造的器件
143 平版印刷版用修版液
144 用以显影液晶显示器的装置与方法
145 双层制模白板及其制造工艺
146 紫外线固化树脂组合物以及包含该组合物的光防焊油墨
147 负性感光树脂组合物和使用该组合物的显示装置
148 影印用于平版印刷工艺中的自动化液体分配的方法和系统
149 紫外线可固化树脂组合物以及包含该组合物的光防焊油墨
150 正型感光性树脂前体组合物以及使用它的显示装置
151 复杂图案的相移掩膜
152 压印制版用的透明模板与衬底之间间隙和取向的高精度控测方法
153 包括氟化铵的光刻胶去除剂组合物
154 形成微影制程的相偏移光罩的方法
155 掩模和电发光装置及其制造方法，以及电子仪器
156 一种耐水、耐溶剂重氮系丝网印刷制版感光胶
157 感光性印刷原版
158 曝光系统
159 电荷束曝光装置、采用电荷束的曝光方法、电荷束的控制方法和半导体器件的制造...
160 投影光学系统、曝光装置及曝光方法
161 投影光学系统、曝光装置以及曝光方法
162 曝光装置及曝光方法
163 带厚度测量系统的旋转刻蚀器
164 使用在水溶液中具有高当量电导率的导电材料的抗蚀剂剥离剂组合物
165 光掩模、聚焦监视方法、曝光量监视方法和半导体器件的制造方法
166 流体喷射装置制造方法
167 光探针扫描集成电路用光刻系统中振动刻写方法
168 微影系统中反应负荷的管理方法、系统及设备
169 光致抗蚀剂残渣除去液组合物
170 监测、曝光、腐蚀方法、半导体器件制造方法及曝光装置
171 灰调掩模中灰调部的缺陷修正方法
172 光刻用掩模及其制法和光刻设备与器件制法
173 大面积光罩以及具有此大面积光罩的曝光系统
174 可装设数块光罩的光罩支架及微影曝光系统
175 一种具有使印品产生直观防伪效果的数字激光柔性版
176 一种数字激光成像的柔性版
177 光刻装置和器件制造方法
178 光刻装置和器件的制作方法
179 新颖感光化合物，感光树脂，和感光组合物
180 光敏膏
181 正型化学放大型光阻组成物
182 平版印刷装置，器件的制造方法，由此制成的器件，和计算机程序
183 光刻装置，器件制造方法和光学元件的制造方法
184 光刻设备,设备清洁方法,装置制造方法和由该方法制造的装置
185 曝光装置
186 防止液滴残留的液体喷洒方法及其喷嘴装置
187 衬底处理装置和衬底处理方法
188 多光罩平放器装置及其改善叠加微影的方法
189 利用二倍空间频率技术定义掩膜图案的方法及其装置
190 一种修正掩膜布局图的方法
191 改善光学微影制程解析度的方法
192 消除微影制程中线末端变短效应的方法及其所使用的罩幕组
193 光刻装置和器件的制造方法
194 利用双极照明进行基于规则的栅极缩小的方法和装置
195 光刻装置、对准方法和器件制造方法
196 光刻胶剥离除去方法及装置
197 低成本光刻技术
198 一种制造器件的方法，所制造的器件及平版印刷装置
199 在连续相中包含合成粘度改进剂的光敏微胶囊
200 1,2-萘醌-2-二叠氮磺酸酯光敏剂、制备该光敏剂的方法和光致抗蚀剂组 合...
201 红外敏感的光敏组合物
202 一种平版印刷装置和器件的制造方法
203 用于微平版印刷中的改进的照明系统
204 曝光方法及装置
205 光刻设备和装置的制作方法
206 光刻装置和器件的制作方法
