001 热敏性平版在印刷机上显影
002 纳米电子电路的制造
003 抗蚀性可固化树脂组合物及其固化产品
004 远紫外线可透过的界面结构
005 用于印版处理的机器
006 光可成像组合物
007 感光性元件、抗蚀图形的形成方法和印刷电路板的制造方法
008 影象形成材料和铵化合物
009 曝光方法
010 照明系统,投影曝光设备和器件制造方法
011 用于i-线的高分辨率感光性树脂组合物和形成图案的方法
012 光刻编程系统及其应用
013 光敏树脂组合物和印刷电路板
014 光敏树脂组合物和印刷电路板
015 平版印刷版前体
016 照明光学系统、曝光装置以及微元件的制造方法
017 用于纹理制作的装置与方法
018 感光性着色组合物及滤色器
019 有光学元件的光刻投射装置、器件的生产方法及其器件
020 具有对准量测标记的光罩及其侦测方法
021 保护膜组合物
022 颜色分色方法及其印刷产品
023 可聚合组合物、阻剂及电子束平版印刷之方法
024 曝光装置及曝光方法
025 光刻装置和器件的制造方法
026 光刻装置和器件的制造方法
027 IR烧蚀用层压体
028 用于蒸发的掩模，包括该掩模的掩模框架组件，及其制造方法
029 应用多层光致抗蚀剂层结构的光刻工艺
030 调整聚焦位置的方法
031 光投射处理设备和用它制造器件的方法及制成的器件，污染物的清洁设备和清洁方...
032 光刻设备和器件制造方法
033 扫描曝光设备和方法，以及装置制造方法
034 一种光学接近修正方法
035 传送贮藏箱中掩模或基片的方法和所用设备及其制造方法
036 光刻投射设备和用它制造器件的方法及制成的器件
037 用于微光刻法的先进的照明系统
038 十字标记保持方法、十字标记保持装置以及曝光装置
039 热敏平版印刷版
040 密接型曝光装置
041 曝光量监测方法和半导体器件的制造方法
042 光刻技术中的漩涡相移掩模
043 光罩组合及其形成细线图案的曝光方法
044 光刻设备和器件制造方法
045 曝光装置及载物台装置、以及器件制造方法
046 化学放大刻蚀剂材料和使用它的图案化方法
047 电子束曝光的邻近效应修正方法及其应用
048 用于平版印刷工艺中的高分辨率重叠对齐方法和系统
049 用激光结晶化法加工衬底上半导体薄膜区域的方法和屏蔽投影系统
050 掩膜形成方法及去除方法、以及由该方法制造的半导体器件、电路、显示体模件、...
051 制造器件的光刻法
052 正型光敏性环氧树脂组合物和采用该组合物的印制电路板
053 形成图形的方法和在其中使用的处理剂
054 正型感光性树脂先质及其制造方法
055 定义防护环的光罩及其方法
056 膜结构
057 感光热固性树脂及含该树脂之抗焊油墨组成物
058 步进投影光刻机双台轮换曝光超精密定位硅片台系统
059 氧化羰基铁光刻掩膜版
060 图形形成方法和衬底处理装置
061 辐射敏感树脂组合物，形成有图案绝缘膜的形成方法，装配有该膜的有源矩阵板和...
062 光刻装置及器件制造方法
063 在表面用聚焦电子束诱导化学反应蚀刻表面材料的方法
064 防振装置、平台装置及曝光装置
065 曝光装置判定系统、判定方法、判定程序和半导体器件制造方法
066 可溶于光致抗蚀剂显影液的有机底部抗反射组合物及使用该组合物的光刻和蚀刻方...
067 正型光致抗蚀剂组合物及抗蚀图案的形成方法
068 控制光阻分配的方法及其装置
069 混合式光掩模的照相腐蚀制造方法
070 基于电子束的图形扫描方法和图形扫描装置
071 用于光刻工具的自动聚焦测量的系统和方法
072 感光性平版印刷版
073 光刻胶图案增厚材料、包含它的光刻胶图案及其应用
074 光刻装置和器件制造方法
075 光刻装置和器件的制造方法
076 曝光设备的传送式基板台
077 抗蚀剂剥离装置
078 含有光刻胶组合物的多层元件及其在显微光刻中的应用
079 离子注入之后清除光抗蚀剂的方法
080 衰减极端紫外相移掩模的制造方法
081 利用相移孔隙的投影式光刻
082 可辐射固化的组合物
083 光固化性和热固化性树脂组合物
084 化学增强的正型辐射敏感树脂组合物
085 相移掩模
086 用于设计掩模和制造面板的方法
087 光刻胶图案增厚材料、光刻胶图案及其形成工艺，半导体器件及其制造工艺
088 曝光系统及其曝光方法
089 渐层遮光板曝光法的光罩及其侦测方法
090 具有光标尺的渐层遮光板曝光法的光罩及其侦测方法
091 用于特殊微型光刻的基片
092 用形成水溶性树脂和抗蚀剂材料的混合层制备微电子结构的方法
093 化学增强型光刻胶组合物
094 一种凹球面光刻刻划机
095 光刻装置及器件制造方法
096 曝光装置的检查方法和曝光装置
097 显影方法、衬底处理方法和衬底处理装置
098 钎料印刷用掩模、布线基板及其制造方法、及其它们的应用
099 夹盘、光刻装置和器件制造方法
100 高分辨率映像装置用光刻胶
101 压印掩模光刻
102 设计相栅图形的方法，以及光掩模系统的制造方法
103 使激光束扩展而不扩展空间相干性的系统和方法
104 基底固定件以及器件制造方法
105 光刻装置及器件制造方法
106 频域相位对准系统
107 调准装置和方法，平版印刷装置，器件制造方法及制造的器件
108 半导体显影剂
109 熔融二氧化硅薄膜
110 印刷板材料
111 光刻用掩模护层及其制作方法
112 微铸碳化硅纳米压印模
113 用于生产自对准掩模的非平版印刷方法，所生产的制品和用于该制品的组合物
114 表面传导型电子发射元件及图像形成装置的制造方法
115 检验方法和器件制造方法
116 检验方法及器件制造方法
117 平版印刷版前体
118 正性光敏组成物
119 一种化学增幅型正性抗蚀剂组合物
120 一种光刻装置和装置的制作方法
121 一种光刻装置和装置的制作方法
122 基板校准装置，基板处理装置及基板搬运装置
123 全芯片无铬相光刻技术生产中实现关键尺寸线性控制的方法
124 精细图案形成方法和抗蚀剂表层处理剂
125 转移方法和有源矩阵基板的制造方法
126 可聚合组合物和利用其的平版印刷版前体
127 微细图形形成材料、微细图形形成法及半导体装置的制法
128 磺酸盐和光刻胶组合物
129 光刻装置和器件的制造方法
130 光刻投射装置及用于所述装置中的反射器组件
131 用于管理光刻镜上的光化光强瞬态变化的方法和设备
132 光刻设备和器件制造方法
133 光刻投射装置及用于所述装置中的粒子屏障
134 光刻投射装置及用于所述装置中的反射器组件
135 设计曝光装置孔径的模拟方法和系统和记录模拟法的介质
136 用于除去抗蚀剂的洗净液及半导体器件的制造方法
137 用于形成双金属镶嵌结构工艺的洗涤液及基板处理方法
138 对准基底的方法、计算机程序、器件的制造方法及由此制得的器件
139 制作平滑的对角组件的数字光刻系统
140 阵列式光探针扫描集成电路光刻系统中的对准方法及其装置
141 自动光学近似校正规则的产生
142 利用至少两个波长的光刻系统的对准系统和方法
143 利用感光性树脂的感光性树脂复合物
144 化学增幅型正性抗蚀剂合成物
145 感光性热固性糊状组合物以及使用其得到的烧成物图案
146 红外线敏感的组合物和平版印刷版前体
147 LCD制造用正型光致抗蚀剂组合物和抗蚀图的形成方法
148 光刻装置、器件制造方法及其制造出的器件
149 辐射源、光刻装置和器件的制造方法
150 光刻装置和测量系统
151 光刻投射装置及器件制造方法
152 电光装置用基板的制造方法和电光装置的制造方法
153 投影光学系统以及具备该投影光学系统的曝光装置
154 带状工件输送装置
155 确定杂散辐射的方法，光刻投影设备
156 利用二次电子的电子投影光刻装置
157 在光学石版曝光时冷却标线板的方法以及装置
158 包括二次电子清除单元的平版印刷投影装置
159 烷基化氨基烷基哌嗪表面活性剂及其在光致抗蚀显影剂中的应用
160 具有与真空室连通的真空掩模版库的光刻设备
161 具有垂直于晶片台的光罩台的反射折射光刻系统及方法
162 检查方法和光掩模
163 投影光学系统、曝光装置以及组件制造方法
164 曝光设备及传送掩模和工件的方法
165 具有改进了的吸收层的远紫外线掩模
166 电路形成用感光性膜及印刷配线板的制造方法
167 印刷电路板的制造法及用于其中的感光性树脂组合物
168 带有可移动透镜的光刻装置和在存储媒体中制作数字全息图的方法
169 三色调衰减相移掩模的自对准制造技术
170 聚合物中的保护基,光刻胶及微细光刻的方法
171 抗蚀剂剥离用组合物
172 掩模图案校正装置和掩模图案校正方法、掩模制备方法和半导体器件生产方法
173 聚合物掺混物及其在用于微细光刻的光刻胶组合物中的应用
174 新共聚物及光致抗蚀组合物
175 亚波长结构的制造方法
176 可聚合组合物和平版印刷版前体
177 负性光刻胶树脂涂布液及其制备方法
178 显影活化液及其在制备高影象反差胶印版中的应用
179 具有高影像反差的卤化银乳剂及其制备方法和用途
180 图形发生器
181 光刻装置，镜元件，器件制造方法，及束传送系统
182 识别码的激光标记方法及装置
183 器件制造方法和所制出的器件以及计算机程序和光刻装置
184 光刻投影掩模和使用该掩模制造器件的方法及制造的器件
185 显影液组合物及其应用方法
186 原版、曝光监测方法、曝光方法和半导体器件的制造方法
187 一种设计交替相移掩模的方法
188 光敏抗蚀剂显影液用消泡分散剂
189 在光刻机中用于从主室气体隔离光源气体的方法和设备
190 光刻设备和制造器件的方法
191 制造光学元件的方法，光刻装置和器件制作方法
192 光刻投射装置及器件制造方法
193 光刻装置和器件制造方法
194 恒定光源步进扫描实现大面积光刻方法及其光刻装置
195 光致抗蚀剂显影剂组合物
196 图像传感器中平面滤色器的制作方法
197 高折射率环氧树脂和低折射率烯类单体组成的光致聚合物体全息存储材料及其制备...
198 保持折反射光刻系统以无翻转（非镜面）像的分束器光学设计
199 光刻设备和器件制造方法
200 光刻装置，器件制造方法，及由此制成的器件
201 光刻装置及器件制作方法
202 提高化学增强光致抗蚀剂分辨率的方法
203 电光装置用基板、该基板的制造方法及其应用、以及掩模
204 光刻胶掩模及其制作方法
205 制造微结构的方法
206 一种无掩模纳米图形制作方法及其制作装置
