多孔金字塔减反射结构制备方法及HIT太阳能电池制备工艺 CN201310467811.8

本发明公开了一种多孔金字塔减反射结构制备方法及HIT太阳能电池制备工艺，多孔金字塔减反射结构制备方法的步骤如下：1）对单晶硅衬底进行清洗制绒，使其表面形成金字塔结构的绒面；2）将具有所述金字塔结构的单晶硅衬底浸没在酸性溶液中进行处理；3）采用反应离子刻蚀方法对经过步骤2）处理的单晶硅衬底进行刻蚀，在金字塔结构上制备纳米结构，使经过步骤2）处理的单晶硅衬底表面形成多孔状金字塔结构；4）将经过步骤3）处理后的单晶硅衬底进行碱刻蚀，得到该太阳能电池表面的多孔金字塔减反射结构。本发明能够降低衬底的反射率，从而提高短路电流密度的同时提高了衬底的钝化效果，适当地提高了电池的开路电压，提高了电池的转换效率。
专利类型：发明
专利号：201310467811.8
专利申请日：2013.10.10
公开（公告）日：2013.12.25
申请（专利权）人：常州天合光能有限公司
发明（设计）人：陆中丹;石建华
国别省市：江苏;32