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半导体器件、其他类目未包括的电固体器件专利技术13

001 改善高崩溃电压的半导体功率整流器电压突降的方法
002 半导体器件及其制作方法
003 形成微晶硅系列薄膜的工艺和适于实施所述工艺的装置
004 氮化镓单晶衬底及其制造方法
005 备有执行闪速存储器存取控制的存取电路的半导体存储器
006 电容元件及其制造方法
007 电容元件及其制造方法
008 半导体器件
009 形成随机存取存储器单元阵列的埋藏式电容阵列的方法
010 皇冠型电容结构的制造方法
011 制造隐匿于半导体基底的水平沟槽电容器的方法
012 半导体器件及其制造方法
013 用于对物体进行视觉检测的方法和装置
014 半导体器件和半导体器件的制作方法
015 用半球形晶粒制造电容的方法
016 晶片抛光设备及晶片抛光用衬垫
017 用于制造半导体器件的触点的方法
018 掩模的制造方法
019 接触窗及接触窗蚀刻方法
020 半导体装置、半导体芯片装载用基板、它们的制造方法、粘合剂和双面粘合膜
021 制造半导体薄膜的方法及其所用设备
022 碳化硅衬底及其制造方法以及使用碳化硅衬底的半导体元件
023 红外传感器
024 用于双向光学数据传输的光电模块
025 自对准非易失性存储单元
026 芯片模块及制造芯片模块的方法
027 半导体光电探测器及其制造方法
028 具光检测电路的光电集成电路及其制造方法
029 绝缘栅晶体管、其制造方法和半导体集成电路器件
030 异质结双极型晶体管
031 半导体装置
032 半导体存储器电路
033 半导体装置
034 可再制的热塑性封装材料
035 半导体器件的制造方法
036 半导体集成电路器件和制造半导体集成电路器件的方法
037 超密集动态随机存取存储单元及其制造方法
038 半导体器件及其形成方法
039 在铝/铜金属线路上除去活性离子蚀刻后的聚合物
040 制造半导体器件的方法
041 电子电路
042 快闪电性可抹除只读存储器
043 具有高耦合率永久性存储器及其制造方法
044 只读存储器及其制造方法
045 半导体器件及其制造方法
046 带有用于焊料块的基底阻挡膜的半导体器件及其制造方法
047 使用保护夹具固定脆性导电引线的方法和装置
048 制造铁电存储器件的方法
049 快闪存储单元的制造方法
050 快闪存储器分离栅极结构的制造方法
051 可擦除可编程只读存储器隧穿氧化物单元的制造方法
052 具有分离栅极与源极注射的快闪存储器及其制造方法
053 插塞的制造方法
054 插塞的制造方法
055 形成没有凹陷的沟槽隔离的方法
056 形成集成电路的方法
057 制造具有不同栅氧化物层的半导体器件的方法
058 降低在蚀刻氮化物时产生微负载的方法
059 步进分析方法和系统
060 制造半导体存储器件的电容器的方法
061 形成半导体器件中的自对准接触的方法
062 热平衡射频功率晶体管的均匀镇流电阻
063 集成电路封装用的芯片级球形格栅阵列
064 带有通孔从焊球键合位置侧向偏移的TAB带球栅阵列封装
065 等离子体蚀刻系统
066 超快速相变的有机电双稳器件
067 半导体器件及其制造方法
068 热沉及带热沉的存储器模块
069 带有减少的线连接的存储器
070 半导体器件的制造方法
071 半导体器件
072 形成半导体器件槽隔离的方法
073 采用条纹图形的覆盖测定技术
074 用于半导体器件中的接触故障检测的装置和方法
075 选择性金属层的形成方法及其应用
076 用于半导体装置中的绝缘膜和半导体装置
077 层间介电层平坦化制造方法
078 具有缺陷祛除区的半导体
079 构件分离装置和加工装置
080 半导体装置的制造方法
081 发光二极管装置及其制造方法
082 亚四分之一微米级硅-绝缘体的MOS场效应晶体管
083 具有阻挡层的断路闸流管
084 半导体器件及其制造方法
085 固态成像器件及其制造方法
086 高压CMOS结构的半导体器件及其制造方法
087 半导体存储器件及其制造方法
088 半导体集成电路
089 电平变换电路
090 压装在印刷电路板孔内从集成电路到散热器传热的导热基片
091 模压球栅阵列型半导体器件及其制造方法
092 带有导热支持元件的电子封装件
093 半导体装置
094 半导体器件布线布局方法及存储所用程序的介质
095 半导体器件的制造方法
096 半导体器件及其制造方法
097 双镶嵌式自对准通路互连
098 半导体器件及其制作方法
099 制造具有多层布线层的半导体装置的方法
100 等离子体处理装置及等离子体处理方法
101 半导体装置的制造方法
102 半导体器件及其制造方法
103 压电谐振器和包括它的电子元件
104 太阳能电池组件及系统,带太阳能电池的外罩及安装方法
105 光电子元件与用于制造的方法
106 光电功率产生盖顶及其安装方法
107 在阱区间无台阶的半导体器件
108 可减小漂移扩散电容的电荷转移器件和电荷转移方法
109 具有两对晶体管和一对负载元件的静态存储单元
110 纵向晶体管
111 半导体存储器件及其制造方法
112 半导体存储器
113 互补型金属氧化物晶体管半导体器件及其制造方法
114 半导体装置中的布线图形的自动配置
115 对准键合机或拾放机的焊头的方法和装置
116 碳化硅上的锇整流肖特基和欧姆连接以及W/WC/TiC欧姆接触
117 半导体器件及其生产方法
118 低噪声的球栅阵列封装
119 制造多电平掩模只读存储器的方法
120 具有掺杂多晶硅层构成的互连的半导体器件的制造方法
121 制造卡产品的方法及制造装置
122 用铜布线膜生产半导体器件的方法
123 一种用于生产具有双重波纹结构的半导体器件的方法
124 光掩膜及其曝光方法
125 控制半导体设备的方法
126 一种热电材料制成的铸板
127 电荷耗散场发射器件
128 图象传感器芯片及图象传感器
129 半导体器件及其使用的多层引线框架
130 电子部件和半导体装置及其制造方法、电路基板及电子设备
131 用于保持和保护半导体晶片的设备和方法
132 微芯片准确定位设备
133 通过采用光滑底电极结构具有改进的存储保持的薄膜铁电电容器
134 压电元件
135 提高长期稳定性的有机电场致发光器件
136 半导体器件及其制造方法
137 光电转换装置和图象传感器
138 动态随机存取存储器单元装置和其制造方法
139 互补金属氧化物半导体器件
140 半导体器件、静电放电保护元件及防护绝缘击穿的方法
141 电路板平面化方法和制造半导体器件的方法
142 制作BiCMOS半导体器件的方法
143 半导体器件及其制造方法
144 半导体图象传感器及其制造方法
145 制造半导体器件的方法
146 清洁盒
147 芯片尺寸半导体封装的制备方法
148 用于布线的铝膜形成方法
149 带半球形晶粒的电容器的制造方法
150 在化学敏感型光刻胶上形成图形的方法
151 结构化保护层和绝缘层的制备
152 制造半导体器件的方法
153 干胶片拉伸装置
154 硅基片及其制造方法
155 单片多层压电驱动器及其制造方法
156 热电组件及其制作方法
157 制备多个半导体的方法
158 多颜色发光二极体
159 光电元件以及由其组成的组件
160 半导体装置
161 半导体器件及其制造方法
162 半导体集成电路的衬底和半导体集成电路的制造方法
163 用于改善层厚控制的缓冲层
164 简化三维沟道电容器动态随机存取存储器的方法
165 金属化系统
166 在半导体器件中形成隔离沟槽的方法
167 在半导体基片上形成沟槽绝缘的方法
168 多晶硅的腐蚀方法和腐蚀装置
169 梯形多晶硅插塞及其制造方法
170 溅射装置及用其制造半导体器件的方法
171 用于准确地转换非均匀厚度光刻胶层中的潜像的工艺
172 半导体器件生产装置及生产方法
173 半导体处理器件仿真方法和存储仿真程序的存储介质
174 半导体装置及其制造方法
175 耐腐蚀及耐气候的分层结构
176 由导电针阵列屏蔽的半导体器件及制备这种器件的方法
177 半导体芯片用的载体元件
178 限流器
179 半导体器件及其制造方法
180 高速/高性能金属氧化物半导体晶体管及其制造方法
181 半导体器件及其制造方法
182 介质分隔式半导体器件
183 减小半导体器件中的寄生漏电
184 非易失P沟道金属氧化物半导体二晶体管存储单元和阵列
185 电容器及其制造方法
186 半导体器件
187 半导体器件
188 具有伪键合线的半导体集成电路器件
189 半导体器件
190 半导体器件及其制造方法
191 集成电路中阻止深结注入和硅化物形成的间隔物
192 半导体器件及其制造方法
193 测试集成电路芯片的探针卡
194 集成电路布线工艺
195 利用有选择的外延生长方法的半导体器件制造方法
196 钛膜形成方法
197 用于集成电路器件制造的先进介电材料和工艺
198 制造集成电路的化学机械研磨方法及其装置
199 从氧化硅膜选择蚀刻氮化硅膜的方法
200 通过电子束辐射制作绝缘膜线路图形的方法
201 制造半导体器件的方法
202 超浅半导体结的制作
203 半导体器件生产方法
204 硬蚀刻掩模
205 固态成像装置
206 金属绝缘体半导体类型的半导体器件及其制造方法
207 具有选择性生长接触焊盘的半导体器件
208 千瓦功率管
209 半导体图象传感器的结构及其制造方法
210 半导体器件及其制造方法
211 结合薄膜和体Si晶体管的合并逻辑和存储器
212 半导体器件
213 用于传热增强连接件的方法和装置
214 半导体功率器件的封装及其组装方法
215 半导体器件及其制造方法
216 具有晶片预行预烧的半导体元件与方法
217 制备层间绝缘层的工艺和其中使用的汽相淀积系统
218 具有亚芯片规模封装构造的半导体器件及其制造方法
219 半导体晶片注胶方法及装置


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