多晶硅太阳能电池高效多层减反射膜及其制备方法 CN201610970954.4

本发明涉及一种多晶硅太阳能电池高效多层减反射膜及其制备方法，其特征是：包括依次设置于半导体衬底上的氧化硅、多层不同厚度和不同折射率的氮化硅层和氮氧化硅层。所述多晶硅太阳能电池高效多层减反射膜的制备方法，其特征是，包括以下步骤：（1）将经清洗制绒、扩散及刻蚀后的硅片放置于真空腔室中进行加热；（2）采用PECVD工艺在硅片表面沉积一层氧化硅层；（3）采用PECVD工艺在步骤（2）得到的氧化硅层的表面沉积多层不同厚度和不同折射率的氮化硅层；（4）采用PECVD工艺在步骤（3）得到的多氮化硅层的表面沉积氮氧化硅层。本发明所述减反射膜在满足抗PID衰减性能的同时具有较高的转换效率。
专利类型：发明
专利号：201610970954.4
专利申请日：2016.10.28
公开（公告）日：2017.02.22
申请（专利权）人：无锡尚德太阳能电力有限公司; 洛阳尚德太阳能电力有限公司;
发明（设计）人：支凯飞; 杨辉; 李伟乐;
国别省市：江苏;32