一种处理惰性基底上石墨烯的方法 CN201210107475.1

本发明公开了一种处理惰性基底上石墨烯的方法，该方法包括：将石墨烯沉浸在氢离子浓度为8-10mol/L且Mn2O7浓度为0.016-0.4重量％的水溶液中。本发明提供的处理惰性基底上石墨烯的方法，只需将石墨烯沉浸在氢离子浓度为8-10mol/L且Mn2O7浓度为0.016-0.4重量％的水溶液中，方法简单、低耗；可通过调节沉浸时间来得到不同电学性质的石墨烯，方法可控；反应条件温和，在室温下即可进行，无需搅拌，实现了位于惰性基底上的石墨烯的处理。本发明方法可广泛应用于工业生产。
专利类型：发明
专利号：201210107475.1
专利申请日：2012.04.12
公开（公告）日：2013.10.30
申请（专利权）人：国家纳米科学中心
发明（设计）人：王圣楠;王锐;王小伟;裘晓辉
国别省市：北京;11