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对金属材料的镀覆、表面扩散法表面处理、真空蒸发、溅射、离子注入镀覆专利技术16

001 用于银沉积的酸性溶液及在金属表面上沉积银层的方法
002 带有超硬沉积层的器件
003 辉光放电分解装置
004 镀膜装置及其夹具
005 等离子处理设备、半导体制造设备以及其中使用的静电夹具单元
006 镍钛合金化学镀镍钴钨的镀液和工艺方法
007 硬质镀膜及其制造方法
008 涂覆设备
009 覆层设备
010 压差式真空抽吸的材料蒸发室
011 使用低蒸气压气体前体向基材上沉积膜的系统
012 旋转型的批量生产用CVD成膜装置和在塑料容器的内表面形成CVD膜的成膜方...
013 用电子束硬化低介电常数膜的方法
014 用于阴极射线管的内部磁屏蔽材料及其制造方法
015 光学薄膜镀制过程中的膜厚监控及测量方法
016 电弧喷镀装置
017 β型钛的表面固化处理方法及β型钛系构件、β型钛的表面固化处理装置
018 霍尔源激励磁控溅射增强型多弧离子镀膜方法
019 通过离子注入和热处理制备有色金刚石的方法
020 用以形成薄膜的可在基片和防镀片之间改变距离的喷镀设备
021 含铪膜形成材料、以及该形成材料和含铪薄膜的制造方法
022 用于化合物半导体材料生长的喷头及原料输入方法
023 拉丝用低温快速磷化液及磷化工艺
024 在连续的熔化浸渍精炼中的隔离气体的使用
025 用于在等离子体加工系统中电弧抑制的方法和系统
026 表面处理镀锌类钢板及其制造方法
027 金属表面的涂层方法
028 具有优异的受压可成形性的预涂覆金属板及其生产方法
029 高耐氧化部件
030 高耐氧化部件
031 溅射装置
032 无栅极离子助镀器
033 化学镀成导电粉体及其制造方法
034 化学镀成导电粉体及其制造方法
035 被覆膜的材料选择方法及被覆膜
036 将化合物加入到多孔材料的孔中的方法和设备及其用途
037 用于CVD法的锆配位化合物和使用其制备薄膜的方法
038 在由塑料材料制造的载体介质上镀金属的方法
039 包含光催化TiO2层的基片
040 一种镍基耐磨耐蚀合金热浸镀方法
041 改善焊接结构疲劳性能的等离子喷涂法
042 溅射装置及形成薄膜的方法
043 一种金银纳米颗粒分散氧化物光学薄膜制备方法
044 物理气相沉积方法及其设备
045 一种在磁制冷材料表面制作薄膜的方法及装置
046 金属薄膜中阈值能氦引入方法
047 溅射方法及其装置
048 气体配制系统及其气体配制方法
049 具有超硬镀膜的模具
050 保持金属化熔池的方法
051 单晶硅片表面制备巯基硅烷稀土纳米复合薄膜的方法
052 单晶硅片表面制备磺酸基硅烷稀土纳米复合薄膜的方法
053 中温化学镀镍溶液
054 三价铬钝化液及其制备方法
055 三氧化二铁包覆碳纳米管磁性复合材料的制备方法
056 超声快速沉积法制备纳米氧化物透明导电膜的设备及方法
057 多组分沉积
058 一种半导体激光器腔面钝化的方法
059 在无织构的金属基带上制备YBCO高温超导薄膜的方法
060 含陶瓷粒子自熔性合金喷镀材料
061 电弧喷镀用耐磨损材料复合丝及其制造方法
062 马氏体时效型钢的等离子渗氮、电动剃须刀的剃刀盖、用该钢制造的切削器具以及...
063 高PTF溅镀靶和制造方法
064 原子层沉积方法
065 铜膜沉积方法
066 小体积、高流导的处理室
067 耐白锈性优异的表面处理钢板及其制造方法
068 多层镀敷汽车燃料配管零件
069 放电表面处理用电极、放电表面处理方法及放电表面处理装置
070 大型构件热浸镀螺纹保护浆
071 一种常温发黑处理工艺
072 钢件快速热渗铝工艺
073 一种制备氮化钛复合陶瓷的工艺
074 硬质保护膜及其形成方法、以及硬质保护膜包覆工具
075 用于反应溅射的设备
076 适应热膨胀的喷头装备
077 冷却装置、使用了该装置的图像显示面板的制造装置以及方法
078 一种镁及镁合金化学氧化方法
079 铜合金硬币坯饼抗变色工艺及其抗变色专用制剂
080 一种适用于镁合金基体表面机械镀锌锡复合镀层的工艺
081 等离子体球化处理的陶瓷粉末
082 电动剃刀的耐磨不锈切削元件、电动剃刀和制造这种切削元件的方法
083 金属材料及其制造方法
084 溅射靶、烧结体及利用它们制造的导电膜、有机EL元件及其所用的衬底
085 涂布以钛化合物薄膜的制品、制备该制品的方法和用于涂布该薄膜的溅射靶
086 衬底处理设备及相关的系统与方法
087 氮化钨的汽相沉积
088 大气压二氧化钛CVD涂层
089 氧化铝薄膜的制备方法
090 在用塑料制成的玻璃板上形成涂层的方法
091 通过电磁射线发射进行原位衬底温度监控的方法和装置
092 金属化
093 用于再生无电金属电镀浴的装置及方法
094 α型晶体结构为主体的氧化铝被膜制造方法、α型晶体结构为主体的氧化铝被膜和...
095 耐腐蚀性铝系结构部件及其制造方法
096 直列式有机电致发光制造装置
097 蒸镀工序用喷嘴蒸发源
098 溅射靶材料及其生产方法
099 用于平面溅镀的二维磁电管扫描
100 单MEVVA离子源渗注镀复合处理工艺
101 物理场作用下化学气相沉积快速制备炭/炭复合材料的方法
102 防止真空计腐蚀的真空工作设备与方法
103 在沉积过程中维持副产物挥发性的方法和设备
104 压电膜的制造方法、基板和压电膜的层叠结构、压电激励器及其制造方法
105 制造膜或压电膜的方法
106 向-制程室提供气体的方法及设备
107 含铅的铜合金的降低铅溶出的处理方法及含铅的铜合金制的水管道用器具
108 对Sn合金的表面处理剂及表面处理方法
109 具有表面抗菌膜的卫浴产品的制作方法及其制品
110 脉冲偏压电弧离子镀钛/氮化钛纳米多层超硬薄膜的方法
111 用于高功率溅镀的电源联接器
112 薄膜形成方法、光学膜、偏振膜及图像显示器
113 经激光构图的塑料表面处理方法
114 镍钛合金复合化学镀载药镍钴钨薄膜的镀液和工艺方法
115 多方式、快速室温锌系或锌钙系或铁系清洁型磷化液
116 榨油机耐磨易损件及其制造方法
117 一种电解用涂层阳极的制造方法
118 外观极佳的锡基金属镀层钢带及其生产工艺
119 溅射靶及光记录介质
120 溅射靶及光记录介质
121 铜溅射靶和形成铜溅射靶的方法
122 PVD靶和处理PVD靶的方法
123 对基质进行真空处理的设备
124 连续化学气相沉积工艺和加工炉
125 电镀聚酯树脂成型制品及其制造方法
126 无电解镀装置及无电解镀方法
127 金属材料表面的涂布方法,用于实施该方法的设备以及如此获得的产品
128 用于锌和锌合金的非氰化物铜电镀方法
129 液体擦拭装置
130 铜铝复合材料的制造方法
131 氧化锡纳米敏感薄膜制备方法
132 有至少一个导辊的在带材处理设备中引导带材的导向装置
133 对带有空腔的构件敷设内涂层的方法及具有内涂层的构件
134 铜和铜合金的表面接触促进剂及其使用方法
135 铝合金无铬化学转化液及其使用方法
136 厨房用碳钢铝被覆材料以及其制造方法
137 金属环的氮化处理方法及其装置
138 等离子体处理的金属化膜
139 复合材料
140 可延展的金属间溅射靶的制造方法
141 薄膜成膜方法、薄膜成膜装置和薄膜成膜过程的监视方法
142 基板处理装置和基板处理方法
143 无电解镀方法
144 具有高介电常数的氧化材料薄膜
145 整体热浸镀铝换热器(管束)的生产工艺
146 颗粒增强铝基复合材料表面颗粒暴露及后处理方法
147 制备纳米硅基发光复合薄膜的方法
148 一种在水溶液中制备无机磷酸盐薄膜的方法
149 锰系含钙磷化液
150 一种高耐蚀耐磨等离子喷涂铁基非晶纳米晶涂层及制备方法
151 等离子喷涂
152 粉末金属连杆
153 具有电弧处理能力的高峰值功率等离子体脉冲电源
154 无定形碳膜及其制备方法以及无定形碳膜涂敷的材料
155 制造稳定的掺氟氧化硅薄层的方法、制成的薄层及其在眼科光学中的应用
156 整体式溅射靶组件
157 用于铜金属沉积的铜的吡咯基络合物
158 采用醇形成金属氧化物的系统和方法
159 采用金属有机胺和金属有机氧化物生成金属氧化物的系统和方法
160 用于形成含锆和/或铪层的系统和方法
161 实施等离子体支持工艺的装置
162 无电解镀方法
163 真空氮化热处理炉
164 离子镀膜用高压单脉冲引弧装置
165 电子显微镜制样用真空镀膜机
166 用于表面材料合成的真空反应室
167 物理气相沉积用的涂层装置
168 高均匀膜层镀膜装置
169 多用对向靶溅射仪
170 一种空心阴极放电离子镀刀具装置
171 钢管镀锌镀管机稀土钴永磁合金辊
172 一种耐浸蚀的热镀锌槽
173 S-枪磁控溅射源
174 一种气体渗碳炉渗剂滴注系统
175 多层结构蒸发源
176 镀镍铁合金的聚酯膜
177 聚乙烯薄膜真空镀铝设备
178 分离磁体式平面磁控溅射源
179 多源型平面磁控溅射源
180 电阻探头
181 专用于沉积大面积薄膜的平面磁控溅射源
182 一种平面磁控溅射靶
183 晶体镀膜合体夹具
184 金属化表面人造板材
185 一种新型磁控溅射镀膜机
186 立式真空溅射镀膜机多靶镀膜室
187 渗碳炉气压稳压器
188 镀有金属膜的金属制品
189 内热密封式双温热镀装置
190 推进、步进式双层辉光离子渗金属炉
191 多弧型离子镀膜机
192 一种镀铝聚脂薄膜反光材料
193 一种热镀锌钢丝抹制夹具
194 电阻法控制气体渗碳仪表
195 等离子体加速器法离子镀膜装置
196 渗锌铁制紧固件
197 钢管机械镀锌机
198 小型节能式搪锡器
199 等离子镀膜机点弧自控装置
200 物理气相沉积用杆状基体夹持装置
201 多弧离子镀技术中的等离子体蒸发装置
202 气体渗碳自控系统滴注执行机构
203 多室连续处理设备的空间气体隔离装置
204 一种多功能的磁控溅射离子镀膜装置
205 等离子镀膜装置
206 多阴极脉冲电弧蒸发离化源
207 一种用于磁控溅射的阴极靶
208 钕铁硼制品除锈及镀覆有机膜的装置
209 双室旋转磁控溅射镀膜机
210 一种热镀锌装置
211 真空多区磁控阴极溅射头
212 一种浸渍处理用压杠
213 多弧磁控溅射多功能镀膜设备
214 热基体渗涂金属的装置
215 温度可控型双对靶新型薄膜溅射仪
216 柱状靶等离子镀膜机
217 冷阴极弧光离子镀台阶型靶


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