光刻胶生产工艺相关专利技术

1、PS版和光刻胶用的合成树脂及制备方法
2、包含添加剂用于深UV辐射的光刻胶组合物
3、包括缩醛和缩酮作为溶剂的光刻胶组合物
4、彩色显象管荧光屏的光刻胶组合物
5、产生粒子少的光刻胶组合物的制造方法
6、从光刻胶和剥离液中回收有机化合物的方法
7、带有环状缩酮保护基的含硅光刻胶体系
8、氟化的硅-聚合物和包含该聚合物的光刻胶
9、负性光刻胶树脂涂布液及其制备方法
10、负性深紫外光刻胶
11、负作用化学放大的光刻胶组合物
12、负作用水性光刻胶组合物
13、改善光刻胶耐蚀刻性的方法
14、高分辨率映像装置用光刻胶
15、光刻胶剥离除去方法及装置
16、光刻胶剥离剂组合物
17、光刻胶灵敏度的评价方法和光刻胶的制造方法
18、光刻胶树脂,化学增强光刻胶组合物及图样的形成方法
19、光刻胶修整方法
20、光刻胶用抗反射组合物
21、光刻胶正胶组合物
22、光刻胶组合物
23、光敏聚合物及含有该聚合物的化学扩增的光刻胶组合物
24、含2,4-二硝基-1-萘酚的正性光刻胶组合物
25、含硅偶联剂的共聚物成膜树脂及其193nm光刻胶
26、含有氨基丙烯酸酯中和的粘合剂的带水光刻胶
27、含有含多个酸不稳定部分的侧基团的聚合物的光刻胶组合物
28、含脂环族溶解抑制剂的正光刻胶组合物
29、厚膜光刻胶的低温金属化制备方法
30、化学放大型正光刻胶组合物
31、化学放大型正光刻胶组合物，(甲基)丙烯酸酯衍生物及其制备方法
32、化学放大型正光刻胶组合物及其树脂
33、化学增强的光刻胶
34、化学增强光刻胶及一种光刻胶组合物
35、化学增强型光刻胶组合物
36、化学增强型正光刻胶组合物
37、化学增强型正光刻胶组合物和锍盐
38、磺酸盐和光刻胶组合物
39、集成电路制造技术中可消除光刻中光刻胶毒化的工艺
40、具有联合增稠剂的带水光刻胶
41、聚合物掺混物及其在用于微细光刻的光刻胶组合物中的应用
42、聚合物和含有该聚合物的光刻胶
43、纳米压印光刻胶
44、适用作光刻胶的可紫外线固化的粉末
45、水溶性负性光刻胶组合物
46、稳定的离聚物光刻胶乳状液及其制备方法和应用
47、稀释剂组分及用其除去光刻胶的方法
48、稀土顺式聚异戊二烯负型光刻原胶的制备
49、一种干膜光刻胶
50、一种化学放大型正光刻胶组合物
51、一种化学增强型正光刻胶组合物
52、阴极射线管的改良光刻胶及其制备方法
53、用于剥离光刻胶的组合物
54、用于深紫外光刻术的光刻胶组合物
55、用于深紫外线的光刻胶组合物及其方法
56、用于深紫外线光刻胶的防反射组合物
57、用于微电子的无胺光刻胶粘接促进剂
58、用于微型平板印刷术的多环含氟聚合物及光刻胶
59、用于液晶设备的正型光刻胶组合物
60、用于正性光刻胶的混合溶剂体系
61、有机碱催化的无显影气相光刻胶
62、正向作用的光刻胶
63、正型光刻胶组合物及光刻胶图案形成方法
64、正型光刻胶组合物及使用其形成光刻胶图案的方法
65、正性光刻胶
66、正性光刻胶的制作方法
67、正性光刻胶组合物的热处理方法
68、制造光活性化合物以及由其制造光刻胶的方法