一种多结太阳电池减反射膜及其制备方法 CN201510744419.2

本发明提供一种多结太阳电池减反射膜及其制备方法，本发明所提供的多结太阳电池减反射膜的制备方法包括：步骤一、选择材料分别进行单层沉积；获得对应沉积条件下，沉积入射角与沉积速率的关系；步骤二、测量步骤一得到的各单层膜的光学参数，获得在对应沉积条件下，沉积入射角、沉积速率、光学参数的对应关系；通过仿真程序设计减反射膜结构，优化各层厚度，使得在确定总厚度及沉积条件下，整个减发射膜的平均反射率在300~1700nm范围内最小。本发明所提供的多结太阳电池减反射膜的反射率在300~1700nm内的反射率小于0.25%。
专利类型：发明
专利号：201510744419.2
专利申请日：2015.11.06
公开（公告）日：2017.05.17
申请（专利权）人：上海空间电源研究所;
发明（设计）人：石梦奇; 李欣益; 王训春; 张玮; 周大勇; 陆宏波; 沈静曼;
国别省市：上海;31