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一种多结太阳电池减反射膜及其制备方法 CN201510744419.2


本发明提供一种多结太阳电池减反射膜及其制备方法,本发明所提供的多结太阳电池减反射膜的制备方法包括:步骤一、选择材料分别进行单层沉积;获得对应沉积条件下,沉积入射角与沉积速率的关系;步骤二、测量步骤一得到的各单层膜的光学参数,获得在对应沉积条件下,沉积入射角、沉积速率、光学参数的对应关系;通过仿真程序设计减反射膜结构,优化各层厚度,使得在确定总厚度及沉积条件下,整个减发射膜的平均反射率在300~1700nm范围内最小。本发明所提供的多结太阳电池减反射膜的反射率在300~1700nm内的反射率小于0.25%。
专利类型:发明
专利号:201510744419.2
专利申请日:2015.11.06
公开(公告)日:2017.05.17
申请(专利权)人:上海空间电源研究所;
发明(设计)人:石梦奇; 李欣益; 王训春; 张玮; 周大勇; 陆宏波; 沈静曼;
国别省市:上海;31


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