染料吸附装置以及染料吸附方法 CN201280031621.5

本发明提供一种染料吸附装置以及染料吸附方法。本发明改善使基板上的多孔质半导体层吸附染料的染料吸附处理的生产率以及染料使用效率。在本发明的染料吸附装置中，染料溶液滴下涂覆部（12）对搬入到该染料吸附装置（10）的未处理的基板（G）进行向基板（G）上的多孔质半导体层滴下涂覆染料溶液的第一处理（染料溶液滴下涂覆处理），溶剂蒸发除去部（14）进行将溶剂从涂覆到基板（G）上的半导体层的染料溶液蒸发而除去该溶剂的第二处理（溶剂除去处理），冲洗部（16）进行将附于基板（G）上的半导体层的表面的不必要或者多余的染料洗去而除去该染料的第三处理（冲洗处理）。
专利类型：发明
专利号：201280031621.5
专利申请日：2012.04.24
公开（公告）日：2014.03.19
申请（专利权）人：东京毅力科创株式会社
发明（设计）人：古谷悟郎
国别省市：日本;JP