改性微孔隔膜及其制备方法和应用 CN201110203332.6

一种制备改性微孔隔膜的方法，其特征在于原子层沉积制备改性微孔隔膜：将预处理的微孔隔膜置于原子层沉积设备的反应腔，关闭腔体，用高纯氮清洗反应腔，在20hPa以下的低真空并加热到反应温度80oC-150oC，在载气流量1-100ml/min条件下将前躯体通入反应腔完成一次脉冲，前驱体通入反应腔的脉冲时间为0.1-1s；用高纯氮气清洗,，高纯氮气清洗前躯体的脉冲时间为1-10s；然后通入水蒸气，得到沉积物，最后用高纯氮气清洗，脉冲时间1-20s；前躯体-高纯氮气清洗-水蒸气-高纯氮气清洗，该过程定义为一个沉积循环；沉积循环数在1-1000次后，得到改性的微孔隔膜。本方法能够大幅度提高电解质体系的离子传导速率，满足大电流充放电的需要。
专利类型：发明
专利号：201110203332.6
专利申请日：2011.07.20
公开（公告）号：
公开（公告）日：2013.1.23
分类号：
申请（专利权）人：上海纳米技术及应用国家工程研究中心有限公司
发明（设计）人：张鹏;姜来新;王丹;何丹农
国别省市：上海;31