对基板进行烤焙处理的装置及方法 CN201210363515.9

本发明公开了一种对基板进行烤焙处理的装置，包括支撑平台、多个支撑针、加热单元及绝热层。所述支撑平台具有一支撑面及一底面。所述多个支撑针设置于所述支撑平台中，所述多个支撑针可移动地伸出于所述支撑面，用于顶起所述基板。所述加热单元用于对所述基板进行加热。所述绝热层对应所述支撑平台的所述底面设置，用于防止所述加热单元对所述支撑平台加热。本发明还公开了一种对基板进行烤焙处理的方法，其能有效防止基板在烤焙处理中出现斑点缺陷。
专利类型：发明
专利号：201210363515.9
专利申请日：2012.09.26
公开（公告）号：
公开（公告）日：2013.1.9
分类号：
申请（专利权）人：深圳市华星光电技术有限公司
发明（设计）人：朱美娜;戴裔
国别省市：广东;44