用于太阳能电池的背面点接触部制造的方法 CN201210229934.3

本发明涉及一种用于在太阳能电池的背面电介质层中形成孔以制造背面点接触部的方法。所述背面电介质层覆盖有碳层。遮蔽掩模放置于所述碳层上并利用反应离子蚀刻(RIE)将所述遮蔽掩模中的孔转移到所述碳层中，从而形成一碳掩模。所述遮蔽掩模之后被去除并且利用RIE将所述碳层中的孔转移到所述电介质层中。所述碳掩模之后通过例如灰化方法去除。
专利类型：发明
专利号：201210229934.3
专利申请日：2012.05.17
公开（公告）号：
公开（公告）日：2012.11.21
分类号：
申请（专利权）人：因特瓦克公司
发明（设计）人：Y·K·赵;J·黄
国别省市：美国;US