- 摄影电影图纹面的照相制版印刷工艺半导体器件的加工技术、其所用材料原版专用设备专利技术1
- 001 新型阳图预涂感光平印版 002 稀土顺式聚异戊二烯负型光刻原胶的制备 003 胶印印版的亲水支持体材料、其制备方法及应用 004 用于平板印刷版制造的感光记录材料 005 加保护层的方法 006 改造图象的方法及其设备 007 微细光刻技术 008 照相制版的图象 009 一种用于对准第一...
- 更新：2009-05-26 21:00:11 查阅全文...
- 摄影电影图纹面的照相制版印刷工艺半导体器件的加工技术、所用材料原版专用设备专利技术10
- 001 含有无机粉体的树脂组合物、转印膜和等离子体显示屏的制造方法 002 干膜光致抗蚀剂 003 X射线光刻对准标记 004 光刻装置、照射系统以及提供远紫外线辐射投影光束的方法 005 光刻装置及器件制造方法 006 抗蚀图案的剥离方法 007 磺酸衍生物及其作为潜酸的用途 008 抗反射...
- 更新：2009-05-26 20:59:19 查阅全文...
- 摄影电影图纹面的照相制版印刷工艺半导体器件的加工技术、其所用材料原版专用设备专利技术2
- 001 强紫外激光防伪技术 002 目的物位置和斜度控制装置 003 分步曝光机的光控制装置 004 可干法显影的正性抗蚀剂 005 超高道密度伺服信息极坐标光刻系统、方法及设备 006 投影曝光设备及其方法 007 曝光方法和曝光设备 008 光刻方法和用于实现此方法的光刻系统 009 生产电子...
- 更新：2009-05-26 20:58:42 查阅全文...
- 摄影电影图纹面的照相制版印刷工艺半导体器件的加工技术、其所用材料原版专用设备专利技术3
- 001 红外线和紫外线感光组合物及平印印版 002 用于砂磨的光敏组合物以及含该组合物的光敏膜层压物 003 一种可以正负性互用的化学增幅抗蚀剂及其光刻工艺方法 004 烷氧基N－羟基烷基链酰胺作为抗蚀剂脱除剂的用途 005 用于高光敏度高抗蚀厚涂层i－线光刻胶的磺酰肟类 006 固体...
- 更新：2009-05-26 20:57:59 查阅全文...
- 摄影电影图纹面的照相制版印刷工艺半导体器件的加工技术、其所用材料原版专用设备专利技术5
- 001 光致抗蚀剂组合物 002 改进型曝光台主透镜 003 基板保持装置、曝光装置以及器件制造方法 004 纳米结构 005 光掩模结构及其制造方法 006 光阻剂组合物 007 感放射线组合物及图案形成方法及半导体装置的制造方法 008 制作全像光罩的曝光方法 009 用于在印刷布线板上形成图...
- 更新：2009-05-26 20:57:20 查阅全文...
- 摄影电影图纹面的照相制版印刷工艺半导体器件的加工技术、其所用材料原版专用设备专利技术8
- 001 排出喷嘴式涂布法用正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图的形成方法 002 官能化聚合物 003 光刻设备、装置制造方法和计算机程序 004 烘烤系统 005 光致抗蚀剂移除组合物 006 用于EUV光刻的掩模版及其制作方法 007 光掩模传送支撑座及光掩模传送方法 008 装载锁定装置，包括该...
- 更新：2009-05-26 20:56:31 查阅全文...
- 摄影电影图纹面的照相制版印刷工艺半导体器件的加工技术、其所用材料原版专用设备专利技术9
- 001 光刻设备和校准方法及器件制造方法 002 使用空间光调制器阵列的无掩模光刻系统和方法 003 在无掩模微影术系统中产生灰度调整的系统和方法 004 采用光致抗蚀剂形成均匀的特征的方法 005 光刻装置和器件制造方法 006 光刻装置，器件制造方法及使用该方法制造的器件 007 光...
- 更新：2009-05-26 20:55:06 查阅全文...
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