- 发明专利含水酸性蚀刻溶液和使单晶和多晶硅衬底的表面纹理化的方法 CN201080042105.3
- 本发明涉及一种适合使单晶和多晶硅衬底的表面纹理化的含水酸性蚀刻溶液,所述溶液基于溶液全部重量包含如下组分:3-10重量%氢氟酸;10-35重量%硝酸;5-40重量%硫酸;和55-82重量%水;涉及一种使单晶和多晶硅衬底的表面纹理化的方法,其包括如下步骤:(1)使衬底的至少一个...
- 更新:2012-09-07 09:13:46 查阅全文...
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