一种太阳电池发射极的制备方法 CN201510552322.1
本发明提供了一种太阳电池发射极的制备方法,包括:A)将硅片进行制绒、扩散与刻蚀处理,得到预处理的硅片;B)利用臭氧氧化预处理的硅片,在表面形成氧化层,然后利用氢氟酸溶液去除氧化层,得到太阳电池发射极。与现有技术相比,本发明在常温下利用臭氧氧化预处理的硅片,可在其表面形成氧化层,然后再利用氢氟酸溶液去除氧化层,可有效去除发射极的死层,改善太阳电池的短波光谱响应,提高电池效率,且该方法简单可控,不会显著增加生产成本,适合大规模量产。
专利类型:发明
专利号:
201510552322.1
专利申请日:
2015.09.01
公开(公告)日:
2016.01.06
申请(专利权)人:
浙江晶科能源有限公司; 晶科能源有限公司
发明(设计)人:
金井升; 蒋方丹; 金浩
国别省市:
浙江;33