氧化锌凹凸结构的形成方法及利用其的太阳能电池的制造方法 2012800151138

本发明涉及一种以湿式蚀刻方法在氧化锌薄膜上形成纳米单位的凹凸结构的方法，其特征在于，包括：准备基板的步骤；形成具有纳米范围的高度与宽度的纳米结构的步骤；在形成有所述纳米结构的基板上形成氧化锌薄膜的步骤；以及对所述氧化锌薄膜进行湿式蚀刻的步骤；在所述进行湿式蚀刻的步骤中，位于所述纳米结构上、物理致密性相对较低的氧化锌先被蚀刻，在所述纳米结构的周边，借助于蚀刻而形成凹凸结构。本发明具有不仅能够在凹凸结构上均一地形成薄膜，而且电解质或有机物能够在凹凸结构之间均一地浸透的效果。另外，本发明不仅能够调节凹凸结构的纵横比，而且凹凸结构整体上连接，因而不发生因过度的纵横比差异造成阻抗增加的问题。
专利类型：发明
专利号：2012800151138
专利申请日：2012.08.14
公开（公告）日：2014.12.31
申请（专利权）人：韩国能源技术研究院
发明（设计）人：赵俊植;尹庆勋;安世镇;郭智惠;尹载浩;赵雅拉;申基植;安承奎;鱼英柱;柳镇洙;朴相炫;朴柱炯
国别省市：韩国