一种用于太阳能电池片的减反射膜及其制造方法 CN201410347598.1
本发明提供一种太阳能电池减反射膜及其制造方法。该太阳能电池减反射膜包括:第一氮化硅层,覆盖于所述太阳能电池片的表面;第二氮化硅层,覆盖于所述第一氮化硅层的上表面;以及第三氮化硅层,覆盖于所述第二氮化硅层的上表面。本发明的三层氮化硅减反射膜可产生良好的钝化效果,提高冶金多晶硅电池片的短路电流,降低反向漏电流,提升光电转换效率;同时,本发明的制造方法通过采用间断性沉积技术,即在两层氮化硅薄膜的沉积之间增加一定的停顿时间,使得每层氮化硅薄膜的生长尽可能完整,制得的冶金多晶硅电池外观颜色更加均匀,可将电池片表面的色差率从原来的30%降至5%左右,大大提高了冶金多晶硅电池的合格率。
专利类型:发明
专利号:
201410347598.1专利申请日:
2014.07.21公开(公告)日:
2014.10.08申请(专利权)人:
内蒙古日月太阳能科技有限责任公司;内蒙古大学发明(设计)人:
郭永强;和江变;于利亚;马承鸿;宗灵仑;李健国别省市:
内蒙古;15
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