表面镀膜结构及其制造方法 CN201210552092.5

本发明公开一种表面镀膜结构及其制造方法，适用于太阳热电系统。此表面镀膜结构包含基板、缓冲中介层、吸收层及抗反射层。基板由耐高温、高导热系数材质所构成，再使用化学气相沉积法或物理气相沉积法于基板上接续沉积缓冲中介层、吸收层及抗反射层。缓冲中介层为松弛基板与吸收层的间热膨胀应力；吸收层为吸收及捕陷太阳光的膜层，具有陷光效果的立体多孔状陷光结构；抗反射层则为降低太阳光反射率，增加吸收层吸收光线比例及进一步提升陷光效果。
专利类型：发明
专利号：201210552092.5
专利申请日：2012.12.18
公开（公告）日：2014.06.18
申请（专利权）人：郑金祥
发明（设计）人：郑金祥;江雨龙;郭泰照;吴信贤;陈刚毅;郑宗杰
国别省市：四川;51