一种太阳能电池减反射膜的制作方法 CN201310489233.8

本发明公开了一种太阳能电池减反射膜的制作方法，具体步骤如下：（1）沉积氮化硅膜层：将完成酸制绒、磷扩散和刻蚀清洗的P型多晶硅片置于镀膜设备中，通入反应气体NH3和SiH4，在硅片表面沉积至少一层均匀的氮化硅膜层；所述SiH4和NH3气体标准状态下的流量比例为1∶1～40；（2）沉积二氧化硅膜层：然后在镀膜设备中通入反应气体为N2O和SiH4，在硅片表面沉积一层均匀的二氧化硅膜层，所述SiH4和N2O气体标准状态下的流量比例为1∶1～40。本发明通过减反射膜膜层的组合方式和优化减反射膜镀膜气体的配方，以提高增透强度、减少色差，从而提高转换效率，且与传统太阳能电池生产线兼容，适合于大规模生产。
专利类型：发明
专利号：201310489233.8
专利申请日：2013.10.18
公开（公告）日：2014.03.05
申请（专利权）人：浙江晶科能源有限公司;晶科能源有限公司
发明（设计）人：黄纪德;陈康平;金浩;蒋方丹
国别省市：浙江;33