双重结构透明导电膜及其制造方法 CN201280015087.9

本发明涉及一种电特性与陷光能力都优异的透明导电膜及其制造方法，本发明双重结构透明导电性膜是一种作为太阳能电池的正面防反射膜或正面电极或背面反射膜使用的透明导电膜，包括：透光层；陷光层，一面接触透光层，另一面形成有表面绒面结构；透光层的导电率A与陷光层的导电率a的关系为A>a，透光层的蚀刻性B与陷光层的蚀刻性b的关系为B太阳能电池的正面防反射膜或正面电极或背面反射膜使用的透明导电膜，包括下列步骤：在基板形成透光层；在透光层上形成陷光层；及蚀刻陷光层的表面而形成表面绒面结构；透光层的导电率A及蚀刻性B与陷光层的导电率a及蚀刻性b的关系如前所述。
专利类型：发明
专利号：201280015087.9
专利申请日：2012.08.14
公开（公告）日：2014.01.08
申请（专利权）人：韩国能源技术研究院
发明（设计）人：赵俊植;朴相炫;尹载浩;朴柱炯;申基植;柳镇洙;尹庆勋
国别省市：韩国;KR