一种苝四羧酸-石墨烯异质结基光阳极材料的制备方法 CN201310330862.6

本发明公开一种苝四羧酸-石墨烯异质结基光阳极材料的制备方法，其特征在于包括如下步骤：（1）将0.5×10-4–2×10-4molL-1的苝四羧酸DMF溶液和0.5×10-2–2×10-2mgmL-1的石墨烯悬浮液按照2:1–8:1的比例在室温条件下混合超声1～4小时，再搅拌1～4小时静置过夜，生成苝四羧酸/石墨烯异质结；（2）将苝四羧酸/石墨烯异质结悬浮液滴涂在抛光后的玻碳电极表面于室温下晾干后得到苝四羧酸-石墨烯异质结基光阳极材料。本发明方法制备的苝四羧酸-石墨烯异质结基光阳极材料，为带有活性基团的异质结半导体，其能与探针分子稳定性结合，从而可以提高光电化学传感器的综合分析性能。
专利类型：发明
专利号：201310330862.6
专利申请日：2013.07.31
公开（公告）日：2013.11.20
申请（专利权）人：盐城工学院
发明（设计）人：李红波;李静;王伟;高雷;李威
国别省市：江苏;32