用于形成太阳能电池用透明膜的溅射靶及其制造方法 CN201280004316.7
本发明提供一种能够对折射率低于AZO膜的ZnO-SiO2-Al2O3膜进行DC溅射的用于形成太阳能电池用透明膜的溅射靶及其制造方法。本发明的溅射靶由氧化物烧结体构成，所述氧化物烧结体具有如下成分组成，即相对于总金属成分量含有Al：0.3～4.0wt%、Si：6.0～14.5wt%，剩余部分由Zn及不可避免的杂质组成，该烧结体的组织中存在复合氧化物Zn2SiO4与ZnO。该溅射靶的制造方法具有如下工序：将Al2O3粉末、SiO2粉末及ZnO粉末混合成Al2O3：0.5～5.0wt%、SiO2：10～22wt%、剩余部分：由ZnO及不可避免的杂质组成，以此来作为混合粉末；及将所述混合粉末在真空中以热压进行烧结。
专利类型：发明
专利号：
201280004316.7专利申请日：
2012.02.03公开（公告）日：
2013.08.28申请（专利权）人：
三菱综合材料株式会社发明（设计）人：
山口刚;张守斌;近藤佑一国别省市：
日本;JP
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