蚀刻掩模用组合物及图案形成方法 CN201210478704.0
本发明提供一种太阳能电池用基板的蚀刻掩模用组合物，其是非感光性的，含有酚醛清漆树脂(A)和沸点为190℃以上的溶剂(B)。此外，对于该蚀刻掩模用组合物而言，所述溶剂(B)相对于全部溶剂的含量为70质量％以上。
专利号：
201210478704.0专利申请日：
2012.11.22公开（公告）号：
公开（公告）日：
2013.06.12分类号：
申请（专利权）人：
东京应化工业株式会社发明（设计）人：
富田浩明;吉井靖博;平井隆昭国别省市：
日本;JP
