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一种浅结太阳能电池的制备工艺 CN201210532153.1
本发明公开了一种浅结太阳能电池的制备工艺,包括以下步骤:a、将硅片清洗,去损伤层,制绒;b、在硅片表面喷涂磷酸;c、将硅片放入链式扩散炉中,进行扩散;d、将扩散后的硅片去除磷硅玻璃并刻蚀掉表面死层;e、在发射极表面沉积氮化硅钝化减反射层;f、丝网印刷背电极和正面电极或者电镀正面电极;g、烧结并测试分选。这种浅结太阳能电池的制备工艺保证在浅结的基础上,方阻均匀分布,具有很低的发射极饱和电流密度,显著提高太阳能电池的短波响应,提高太阳能电池的开路电压和短路电流。 专利类型:发明 专利号:201210532153.1 专利申请日:2012.12.12 公开(公告)号: 公开(公告)日:2013.3.13 分类号: 申请(专利权)人:泰州德通电气有限公司 发明(设计)人:初仁龙 国别省市:江苏;32
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