Mn-Co-Ni-O薄膜材料磁控溅射靶材制作方法 CN201210141224.5

       本发明公开了一种Mn-Co-Ni-O薄膜材料磁控溅射靶材制作方法，主要包括以下步骤：(1)称量锰、钴、镍的醋酸盐粉末。(2)使用醋酸的水溶液将粉体溶解，制备出前驱体溶液。(3)对前驱体溶液进行负压抽滤，滤除其中的少量杂质沉淀。将溶液使装入蒸发皿中，烘干，获得干燥的醋酸盐凝块。(4)将醋酸盐凝块捣碎，使用高温烘箱进行烘烧-研磨-烘烧-球磨过程，得到粒径较小、没有残余有机物的锰氧化物粉末。(5)取适量锰氧化物粉末。加入聚乙烯醇溶液，造粒。放入模具中，压制素胚。(6)分段脱胶，除去素胚中的聚乙烯醇。(7)高温烧结。切割，打磨，抛光，得到所需溅射靶材。
专利类型：发明
专利号：201210141224.5
专利申请日：2012.05.09
公开（公告）号：
公开（公告）日：2012.08.29
分类号：
申请（专利权）人：china科学院上海技术物理研究所
发明（设计）人：黄志明;周炜;吴敬;张雷博;褚君浩
国别省市：上海;31